[發(fā)明專利]曝光裝置及物品制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010556563.4
• 申請(qǐng)日: 2020-06-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112099318A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 漆原宏亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京怡豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;高華麗

1.一種曝光裝置，對(duì)基板進(jìn)行曝光，該曝光裝置的特征在于，具有：

投影光學(xué)系統(tǒng)，其將掩模的圖案投影到所述基板；

供給部，其將混合氣體供給到所述投影光學(xué)系統(tǒng)的內(nèi)部的光學(xué)元件間的空間，所述混合氣體是將折射率互不相同的多種氣體以作為設(shè)定混合比的預(yù)先設(shè)定的混合率來(lái)混合而得的；以及

控制部，其通過(guò)控制所述設(shè)定混合比來(lái)對(duì)所述投影光學(xué)系統(tǒng)的成像特性進(jìn)行校正并對(duì)所述基板進(jìn)行曝光，

所述控制部獲取如下響應(yīng)特性，該響應(yīng)特性表示由所述供給部以固定的混合比來(lái)供給混合氣體時(shí)的所述成像特性的演變，

所述控制部在將所述設(shè)定混合比設(shè)定為目標(biāo)混合比并對(duì)所述基板進(jìn)行曝光時(shí)，在所述成像特性轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定狀態(tài)之前的過(guò)渡期間中，所述控制部將所述設(shè)定混合比設(shè)定為基于所述響應(yīng)特性對(duì)所述目標(biāo)混合比進(jìn)行校正而得的值并對(duì)所述基板進(jìn)行曝光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

在所述過(guò)渡期間經(jīng)過(guò)后，所述控制部將所述設(shè)定混合比設(shè)定為所述目標(biāo)混合比并對(duì)所述基板進(jìn)行曝光。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

還具有調(diào)整部，該調(diào)整部調(diào)整所述成像特性，

所述控制部通過(guò)控制所述設(shè)定混合比，來(lái)對(duì)多個(gè)像差分量中的作為所述成像特性的第一像差分量進(jìn)行校正，

與在所述過(guò)渡期間中由所述控制部變更了所述設(shè)定混合比的情形相應(yīng)地，所述調(diào)整部對(duì)所述第一像差分量以外的作為所述成像特性的其他像差分量進(jìn)行校正。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，還具有：

掩模臺(tái)，其保持所述掩模；以及

基板臺(tái)，其保持所述基板，

所述調(diào)整部通過(guò)進(jìn)行對(duì)所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件的驅(qū)動(dòng)、對(duì)所述掩模臺(tái)的驅(qū)動(dòng)以及對(duì)所述基板臺(tái)的驅(qū)動(dòng)中的至少一者，來(lái)調(diào)整所述成像特性。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，

當(dāng)對(duì)所述其他像差分量的校正量超出所述調(diào)整部的可校正范圍時(shí)，所述控制部停止對(duì)所述基板的曝光，直至所述調(diào)整部能夠進(jìn)行校正為止。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，

所述成像特性包括球面像差、倍率像差、畸變像差、像場(chǎng)彎曲、像散、彗形像差中的至少一者。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，

所述第一像差分量是球面像差，所述其他像差分量是倍率像差以及畸變像差。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

所述響應(yīng)特性包括分別與球面像差、倍率像差以及畸變像差相關(guān)的響應(yīng)特性。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述多種氣體是從氦氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒍趸肌⒏稍锟諝庵羞x擇的多種氣體。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

還具有氣壓計(jì)，該氣壓計(jì)測(cè)量設(shè)置有所述投影光學(xué)系統(tǒng)的空間的大氣壓，

所述控制部基于由所述氣壓計(jì)測(cè)量出的大氣壓的值，求出因大氣壓的變化的影響而產(chǎn)生的所述成像特性的變化量，基于該變化量求出對(duì)所述成像特性的校正量。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

還具有檢測(cè)器，該檢測(cè)器檢測(cè)透射所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光，

所述控制部利用所述檢測(cè)器求出因所述投影光學(xué)系統(tǒng)吸收曝光能量而產(chǎn)生的所述成像特性的變化量，基于該變化量求出對(duì)所述成像特性的校正量。

12.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

使用根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任意一項(xiàng)所述的曝光裝置來(lái)對(duì)基板進(jìn)行曝光的工序；以及

對(duì)被曝光了的所述基板進(jìn)行顯影的工序，

其中，從顯影了的所述基板制造物品。