[發明專利]一種手寫漢字的評價方法、裝置及電子設備

在審

• 申請號: 202010554271.7
• 申請日: 2020-06-17
• 公開（公告）號: CN111695539A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 陳淑蘭;陳利兵;饒豐;趙暉;李雪景
• 申請（專利權）人: 北京一起教育信息咨詢有限責任公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G06N3/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 柳欣

1.一種手寫漢字的評價方法，其特征在于，包括：

獲取待識別的手寫漢字軌跡，所述手寫漢字軌跡包括一個筆畫數據或多個有序的筆畫數據；

對所述手寫漢字軌跡進行文字識別處理，確定所述手寫漢字軌跡的識別置信度，所述識別置信度為所述手寫漢字軌跡被識別為預設的標準漢字的概率；

對所述手寫漢字軌跡進行筆畫識別處理，確定每個所述筆畫數據的筆畫置信度，所述筆畫置信度為所述手寫漢字軌跡中的所述筆畫數據被識別為所述標準漢字中相應順位的標準筆畫標識的概率；

根據所述識別置信度和所述筆畫置信度確定所述手寫漢字軌跡的評價結果，所述評價結果與所述識別置信度和所述筆畫置信度之間均為正相關關系。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述識別置信度和所述筆畫置信度確定所述手寫漢字軌跡的評價結果包括：

確定所述手寫漢字軌跡的形態參數，所述形態參數包括軌跡重心偏移量、筆畫位置偏移量、軌跡越界像素占比中的一項或多項；所述軌跡重心偏移量為所述手寫漢字軌跡的重心位置與所述標準漢字的重心位置之間的位置差值，所述筆畫位置偏移量為所述筆畫數據的所在位置與相應的標準筆畫標識所對應的標準筆畫的所在位置之間的位置差值，所述軌跡越界像素占比為所述手寫漢字軌跡中超出預設手寫范圍的像素與所述手寫漢字軌跡總像素之間的比值；

根據所述形態參數、所述識別置信度和所述筆畫置信度確定所述手寫漢字軌跡的評價結果，所述評價結果與所述形態參數之間為負相關關系。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據所述形態參數、所述識別置信度和所述筆畫置信度確定所述手寫漢字軌跡的評價結果，包括：

根據所述形態參數、所述識別置信度和所述筆畫置信度生成所述手寫漢字軌跡的評分值，所述評分值與所述形態參數之間為負相關關系，所述評分值與所述識別置信度和所述筆畫置信度之間均為正相關關系；

確定所述手寫漢字軌跡的文字識別結果和筆畫識別結果，所述文字識別結果用于表示所述手寫漢字軌跡與所述標準漢字是否相匹配，所述筆畫識別結果用于表示所述手寫漢字軌跡的筆畫數據是否與所述標準漢字的標準筆畫標識相匹配；

根據所述評分值、所述文字識別結果和所述筆畫識別結果確定所述手寫漢字軌跡的評價結果。

4.根據權利要求1-3任意一項所述的方法，其特征在于，所述對所述手寫漢字軌跡進行文字識別處理，確定所述手寫漢字軌跡的識別置信度，包括：

根據預設的文字識別模型，對所述手寫漢字軌跡進行文字識別處理，確定所述手寫漢字軌跡被識別為預設的標準漢字的識別置信度；

在所述識別置信度大于預設閾值時，確定所述手寫漢字軌跡與所述標準漢字相匹配。

5.根據權利要求1-3任意一項所述的方法，其特征在于，所述對所述手寫漢字軌跡進行筆畫識別處理，確定每個所述筆畫數據的筆畫置信度，包括：

根據預設的筆畫識別模型，確定每個所述筆畫數據被識別為所述標準漢字中相應順位的標準筆畫標識的識別置信度；

確定所述筆畫數據被識別為相應筆畫標識的概率，并將概率最高的前n個筆畫標識作為所述筆畫數據的有效筆畫標識；

在所述筆畫數據中的一個有效筆畫標識與所述標準漢字中相應順位的標準筆畫標識相一致時，確定所述筆畫數據與所述標準筆畫標識相匹配。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在所述將概率最高的前n個筆畫標識作為所述筆畫數據的有效筆畫標識之后，還包括：

根據預設的相似關系確定與當前的所述有效筆畫標識相似的其他筆畫標識，并將所述其他筆畫標識也作為所述筆畫數據的有效筆畫標識。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述對所述手寫漢字軌跡進行筆畫識別處理，確定每個所述筆畫數據的筆畫置信度，還包括：

在所述手寫漢字軌跡的所有所述筆畫數據分別與所述標準漢字的標準筆畫標識依次匹配時，確定所述手寫漢字軌跡的筆畫數據與所述標準漢字的標準筆畫標識整體相匹配。