[發(fā)明專利]一種高水接抗靜電硬化薄膜及制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010547738.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111875833A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王靈慧;董紅星;劉楷楷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧波惠之星新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C08J7/044 | 分類號(hào): | C08J7/044;C08J7/043;C08J7/046;C09D175/14;C09D167/06;C09D163/10;C09D133/04;C09D5/24;C08L69/00;C08L1/12;C08L67/02;C08L23/12;C08L33/12;C09D17 |
| 代理公司: | 余姚德盛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33239 | 代理人: | 戚秋鵬 |
| 地址: | 315000 浙江省寧*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高水接 抗靜電 硬化 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種高水接抗靜電硬化薄膜,其特征在于:包括從下到上依次貼合的基膜(1)、底涂層(2)以及高水接抗靜電硬化層(3)。
2.如權(quán)利要求1所述的高水接抗靜電硬化薄膜,其特征在于:所述基膜(1)為透明薄膜,材質(zhì)選自PC、TAC、PET、PP或PMMA,厚度為12μm-300μm。
3.如權(quán)利要求1所述的高水接抗靜電硬化薄膜,其特征在于:所述底涂層(2)的材質(zhì)選自PU或亞克力,厚度為50nm-150nm。
4.如權(quán)利要求1所述的高水接抗靜電硬化薄膜,其特征在于:所述高水接抗靜電硬化層(3)由高水接抗靜電涂液固化形成,厚度為0.1μm-5.5μm。
5.如權(quán)利要求4所述的高水接抗靜電硬化薄膜,其特征在于:以質(zhì)量百分含量計(jì),所述高水接抗靜電涂液的原料組成包括:不飽和的丙烯酸樹(shù)脂40%-50%,附著促進(jìn)劑0.02%-0.8%,抗靜電劑1.5%-4%,固化劑1.2%-3.2%,特殊助劑0.02%-0.8%,溶劑41.8%-57.96%。
6.如權(quán)利要求5所述的高水接抗靜電硬化薄膜,其特征在于:所述不飽和的丙烯酸樹(shù)脂選自聚氨酯丙烯酸樹(shù)脂、聚酯丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧丙烯酸樹(shù)脂、氟丙烯酸樹(shù)脂或特殊改性丙烯酸樹(shù)脂中的一種或幾種的組合;所述附著促進(jìn)劑選自硅烷類促進(jìn)劑或鈦酸酯類促進(jìn)劑中的一種或兩種結(jié)合,所述硅烷類促進(jìn)劑選自水性硅烷、氨基硅烷、酰氧基硅烷、乙烯基硅烷、含硫硅烷、環(huán)氧硅烷、脲基硅烷或苯基硅烷中的一種或幾種組合,所述鈦酸酯類促進(jìn)劑選自單烷氧基類、螯合型或配位型中的一種或幾種組合;所述抗靜電劑選自陰離子型、陽(yáng)離子型或非離子型中的一種或幾種組合;所述固化劑選自2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羥基環(huán)己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-乙烯基-苯基氧化膦、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉丙酮-1、2-羥基-2-甲基-苯丙酮基-1或2-羥基-2-甲基-對(duì)羥乙基醚苯丙酮基-1中的一種或幾種組合;所述特殊助劑為含氟助劑;所述溶劑選自乙醇、IPA、丙醇、丙酮、甲基異丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇單丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯或乙酸丁酯中的兩種以上的組合。
7.一種高水接抗靜電硬化薄膜的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
步驟S001,選材;根據(jù)需求選擇合適厚度和材料的基膜(1);
步驟S002,貼合底涂層;將底涂液涂布在所述基膜(1)上固化后形成底涂層(2);
步驟S003,配置高水接抗靜電涂液;將不飽和的丙烯酸樹(shù)脂、附著促進(jìn)劑、抗靜電劑、固化劑和特殊助劑溶于溶劑中,調(diào)節(jié)比例后配置成高水接抗靜電涂液;
步驟S004,貼合高水接抗靜電硬化層;用凹版輥將所述高水接抗靜電涂液涂布在所述底涂層(2)上經(jīng)烘箱加熱后,再經(jīng)過(guò)UV機(jī)固化形成高水接抗靜電硬化層(3)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧波惠之星新材料科技有限公司,未經(jīng)寧波惠之星新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010547738.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





