[發(fā)明專利]光照射裝置、光照射方法和存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010545970.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112147854A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鬼海貴也;古閑法久;友野勝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;徐飛躍 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 照射 裝置 方法 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種光照射裝置,其特征在于,包括:
收納基片的處理室;
收納能量射線的射線源的線源室;
將所述處理室與所述線源室分隔開的分隔壁;
多個(gè)窗部,其設(shè)置在所述分隔壁,能夠使從所述射線源向所述處理室內(nèi)的所述基片出射的能量射線透射;和
多個(gè)氣體釋放部,其分別設(shè)置在所述處理室內(nèi)的所述多個(gè)窗部的周圍,沿所述多個(gè)窗部的表面釋放非活性氣體。
2.如權(quán)利要求1所述的光照射裝置,其特征在于:
所述多個(gè)氣體釋放部分別以包圍所述多個(gè)窗部的任一個(gè)窗部的方式設(shè)置,并將所述非活性氣體以從所述窗部的外周向中心去的方式釋放。
3.如權(quán)利要求2所述的光照射裝置,其特征在于:
所述多個(gè)氣體釋放部分別具有:
以包圍所述窗部的表面的方式設(shè)置在分隔壁的包圍部;
以包圍所述窗部的表面的方式設(shè)置在所述包圍部?jī)?nèi)的緩沖空間;和
隙縫,其沿著所述窗部的表面的外周在所述包圍部的內(nèi)周面具有開口,以從所述緩沖空間內(nèi)向所述窗部的中心導(dǎo)出所述非活性氣體。
4.如權(quán)利要求3所述的光照射裝置,其特征在于:
還包括向所述線源室供給所述非活性氣體的氣體供給部,
所述多個(gè)氣體釋放部分別還具有設(shè)置在所述分隔壁的通氣孔,以從所述線源室向所述緩沖空間導(dǎo)入所述非活性氣體。
5.如權(quán)利要求3所述的光照射裝置,其特征在于,還包括:
沿著所述分隔壁設(shè)置的、向所述多個(gè)氣體釋放部的所述緩沖空間供給所述非活性氣體的至少一個(gè)氣體流路;和
向所述氣體流路供給所述非活性氣體的氣體供給部。
6.如權(quán)利要求5所述的光照射裝置,其特征在于:
所述多個(gè)氣體釋放部分別具有:作為所述緩沖空間的第1緩沖空間;和以包圍所述第1緩沖空間的方式形成在所述包圍部?jī)?nèi)的第2緩沖空間,
所述氣體流路至少在一個(gè)部位與所述第2緩沖空間連接,
所述第1緩沖空間與所述第2緩沖空間在包圍所述窗部的表面的多個(gè)部位彼此連接。
7.如權(quán)利要求2~6中任一項(xiàng)所述的光照射裝置,其特征在于:
還包括排氣部,其將從所述多個(gè)氣體釋放部的每一個(gè)匯集到所述窗部的中心的所述非活性氣體引導(dǎo)至所述處理室內(nèi)的所述基片側(cè),并將該非活性氣體排出到所述處理室外。
8.一種光照射方法,其特征在于,包括:
通過將收納基片的處理室與收納能量射線的射線源的線源室分隔開的分隔壁上所設(shè)置的多個(gè)窗部,從所述射線源向所述處理室內(nèi)的所述基片照射能量射線的步驟;和
至少在所述基片被照射所述能量射線的期間,從分別設(shè)置在所述處理室內(nèi)的所述多個(gè)窗部的周圍的多個(gè)氣體釋放部,分別沿著所述多個(gè)窗部的表面釋放非活性氣體的步驟。
9.一種計(jì)算機(jī)可讀取的存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于:
存儲(chǔ)有用于使裝置執(zhí)行權(quán)利要求8所述的光照射方法的程序。
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