[發明專利]用于有源矩陣有機發光二極體顯示器多層薄膜的蝕刻液在審
| 申請號： | 202010543121.6 | 申請日： | 2020-06-15 |
| 公開（公告）號： | CN111704903A | 公開（公告）日： | 2020-09-25 |
| 發明（設計）人： | 戈士勇;何珂;陸水忠 | 申請（專利權）人： | 江蘇中德電子材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C09K13/06 | 分類號： | C09K13/06;H01L27/32 |
| 代理公司： | 江陰市輕舟專利代理事務所(普通合伙) 32380 | 代理人： | 曹鍵 |
| 地址： | 214400 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 有源 矩陣 有機 發光 二極體 顯示器 多層 薄膜 蝕刻 | ||
1.一種用于有源矩陣有機發光二極體顯示器多層薄膜的蝕刻液，其特征在于，包括按質量百分比計算的以下組分：15-45％的磷酸、1-10％的硝酸、5-25％的蘋果酸、0.2-0.6％的滲透劑、10-14％的亞硝酰氯和1-8％的磷酸二氫鹽組成，余量為去離子水。
2.根據權利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，包括按質量百分比計算的以下組分：25％的磷酸、3％的硝酸、6％的蘋果酸、0.25％的滲透劑、7％的亞硝酰氯、10％的磷酸二氫鉀組成，余量為去離子水。
3.根據權利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，包括按質量百分比計算的以下組分：30％的磷酸、2.5％的硝酸、8％的蘋果酸、0.25％的滲透劑、13％的亞硝酰氯、12％的磷酸二氫鉀組成，余量為去離子水。
4.根據權利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，包括按質量百分比計算的以下組分：30％的磷酸、3.5％的硝酸、5％的蘋果酸、0.3％的滲透劑、13％的亞硝酰氯、15％的磷酸二氫鉀組成，余量為去離子水。
5.根據權利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液的使用溫度為40-70℃。
6.根據權利要求5所述的蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液的使用溫度為65℃。
7.一種如權利要求1-6中任一項所述蝕刻液的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟一、稱取制備蝕刻液的各種原料，備用；
步驟二、將硝酸加入到去離子水中，之后向去離子水中依次加入磷酸、磷酸二氫鉀、亞硝酰氯，攪拌均勻后制得混合物，備用；
步驟三、向步驟二制備的混合物中加入滲透劑和蘋果酸，攪拌均勻后制得所述的蝕刻液。
8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于：步驟二中在向去離子水中依次加入磷酸、磷酸二氫鉀、亞硝酰氯時，邊攪拌邊加入各組分。
9.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于：所述的步驟三包括將步驟二制備的混合物靜置10s以上，之后放入轉速為1000r/min的攪拌機中攪拌，攪拌期間依次加入滲透劑和蘋果酸，且滲透劑和蘋果酸的加入時間間隔3s以上。
10.一種如權利要求1-6中任一項所述蝕刻液于有源矩陣有機發光二極體顯示器多層薄膜中的應用。
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