[發(fā)明專利]半導(dǎo)體工藝設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010542937.7
• 申請日: 2020-06-15
• 公開（公告）號: CN111725099B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 成航航;崔詠琴;林源為
• 申請（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01J37/32
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，包括工藝腔室，所述工藝腔室具有相互連通的進(jìn)氣孔和工藝腔；間隔件，所述間隔件設(shè)置于所述工藝腔內(nèi)，所述間隔件的外緣與所述工藝腔室的側(cè)壁密封配合，所述工藝腔被所述間隔件分隔為發(fā)生腔和反應(yīng)腔，所述進(jìn)氣孔與所述發(fā)生腔連通，所述間隔件具有連通孔，所述連通孔沿厚度方向貫穿所述間隔件，所述發(fā)生腔和所述反應(yīng)腔通過所述連通孔連通；線圈，所述線圈設(shè)置于所述工藝腔內(nèi)，且所述線圈環(huán)繞所述工藝腔的進(jìn)氣路徑設(shè)置；線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述工藝腔室上，所述線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述線圈連接，所述線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述線圈沿所述進(jìn)氣孔的軸向移動(dòng)。上述方案可以解決目前調(diào)整線圈的位置較為困難，影響生產(chǎn)節(jié)奏的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備。

背景技術(shù)

在晶圓等半導(dǎo)體的加工過程中，刻蝕是必不可少的一個(gè)過程。目前，通常采用等離子體對晶圓進(jìn)行刻蝕，半導(dǎo)體工藝設(shè)備通常采用射頻線圈耦合氣體的方式形成等離子體。半導(dǎo)體工藝設(shè)備設(shè)有進(jìn)氣孔和反應(yīng)腔，靜電卡盤放置在反應(yīng)腔內(nèi)，晶圓等待加工件承載于靜電卡盤上，為了保證自進(jìn)氣孔進(jìn)入的氣體在移動(dòng)待加工件處的過程中能夠被離化成等離子體，通常需要使線圈與待加工件相互間隔。線圈與待加工件之間距離較小時(shí)，等離子體的離化效果和均勻度相對較高，可以提升刻蝕效果，線圈與待加工件之間距離較大時(shí)，線圈與待加工件之間的電磁場分布情況發(fā)生變化，可以改善待加工件邊緣傾斜的情況，為了平衡上述情況，通常使線圈處于一個(gè)中間位置。但是，在工藝種類不同的情況下，線圈的中間位置通常也不同，目前通常需要停機(jī)調(diào)整線圈的位置，影響生產(chǎn)節(jié)奏，且調(diào)整難度大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，以解決目前調(diào)整線圈的位置較為困難，影響生產(chǎn)節(jié)奏的問題。

為了解決上述問題，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案：

一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其包括：

工藝腔室，所述工藝腔室具有相互連通的進(jìn)氣孔和工藝腔；

間隔件，所述間隔件設(shè)置于所述工藝腔內(nèi)，所述間隔件的外緣與所述工藝腔室的側(cè)壁密封配合，所述工藝腔被所述間隔件分隔為發(fā)生腔和反應(yīng)腔，所述進(jìn)氣孔與所述發(fā)生腔連通，所述間隔件具有連通孔，所述連通孔沿厚度方向貫穿所述間隔件，所述發(fā)生腔和所述反應(yīng)腔通過所述連通孔連通；

線圈，所述線圈設(shè)置于所述工藝腔內(nèi)，且所述線圈環(huán)繞所述工藝腔的進(jìn)氣路徑設(shè)置；

線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述工藝腔室上，所述線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述線圈連接，所述線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述線圈沿所述進(jìn)氣孔的軸向移動(dòng)。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案能夠達(dá)到以下有益效果：

本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其包括工藝腔室、間隔件、線圈和線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與線圈連接，且線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以驅(qū)動(dòng)線圈沿進(jìn)氣孔的軸向移動(dòng)，進(jìn)而在生產(chǎn)過程中，可以借助線圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)直接改變線圈的位置，操作簡單，且基本不會(huì)對生產(chǎn)節(jié)奏產(chǎn)生影響。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1為本發(fā)明實(shí)施例公開的半導(dǎo)體工藝設(shè)備的一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例公開的半導(dǎo)體工藝設(shè)備的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例公開的半導(dǎo)體工藝設(shè)備中間隔件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例公開的半導(dǎo)體工藝設(shè)備中間隔件的剖面圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例公開的半導(dǎo)體工藝設(shè)備中進(jìn)氣孔與線圈的配合示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例公開的半導(dǎo)體工藝設(shè)備中線圈的一種結(jié)構(gòu)示意圖；