[發明專利]半導體工藝設備有效
| 申請號: | 202010542937.7 | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN111725099B | 公開(公告)日: | 2023-08-18 |
| 發明(設計)人: | 成航航;崔詠琴;林源為 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 施敬勃 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 工藝設備 | ||
1.一種半導體工藝設備,其特征在于,包括:
工藝腔室(100),所述工藝腔室(100)具有相互連通的進氣孔(110)和工藝腔;
間隔件(200),所述間隔件(200)設置于所述工藝腔內,所述間隔件(200)的外緣與所述工藝腔室(100)的側壁(150)密封配合,所述工藝腔被所述間隔件(200)分隔為發生腔(120)和反應腔(130),所述進氣孔(110)與所述發生腔(120)連通,所述間隔件(200)具有連通孔(210),所述連通孔(210)沿厚度方向貫穿所述間隔件(200),所述發生腔(120)和所述反應腔(130)通過所述連通孔(210)連通;
間隔件驅動機構,所述間隔件(200)與所述間隔件驅動機構連接,所述間隔件驅動機構驅動所述間隔件(200)沿進氣孔(110)的軸向移動;
線圈(300),所述線圈(300)設置于所述工藝腔內,且所述線圈(300)環繞所述工藝腔的進氣路徑設置;
線圈驅動機構,設置在所述工藝腔室(100)上,所述線圈驅動機構與所述線圈(300)連接,所述線圈驅動機構驅動所述線圈(300)沿所述進氣孔(110)的軸向移動。
2.根據權利要求1所述的半導體工藝設備,其特征在于,還包括安裝部(510)和連接部,所述安裝部(510)固定于所述工藝腔室(100),所述線圈驅動機構安裝于所述安裝部(510),所述線圈驅動機構通過連接部與所述線圈(300)連接。
3.根據權利要求2所述的半導體工藝設備,其特征在于,所述線圈驅動機構包括第一驅動部(410)、支撐架(420)和升降件(430),其中,
所述支撐架(420)安裝于所述安裝部(510);
所述第一驅動部(410)設置在所述支撐架(420)上,所述第一驅動部(410)與所述升降件(430)連接,所述升降件(430)與所述連接部連接,所述第一驅動部(410)驅動所述升降件(430)沿所述進氣孔(110)的軸向移動。
4.根據權利要求3所述的半導體工藝設備,其特征在于,所述連接部包括連接桿(531)、導向套(532)、導向安裝件(533)和配重件(534),其中,
所述導向套(532)固定于所述安裝部(510)且位于所述安裝部(510)遠離所述工藝腔室(100)的一側,所述導向套(532)套設于所述連接桿(531)之外;
所述導向安裝件(533)固定于所述安裝部(510)且位于所述安裝部(510)朝向所述工藝腔室(100)的一側,所述導向安裝件(533)設置于所述連接桿(531)上;
所述連接桿(531)的一端與所述升降件(430)連接,所述連接桿(531)的另一端與所述線圈(300)連接;
所述配重件(534)設置在所述連接桿(531)上。
5.根據權利要求4所述的半導體工藝設備,其特征在于,所述連接桿(531)通過微調機構(520)與所述升降件(430)可調連接。
6.根據權利要求2-5任一項所述的半導體工藝設備,其特征在于,所述間隔件驅動機構包括第二驅動部(610)、支撐件(620)和連接件(630),所述第二驅動部(610)設置在所述安裝部(510)上,所述第二驅動部(610)與所述支撐件(620)連接,所述支撐件(620)設置在所述工藝腔內,所述第二驅動部(610)驅動支撐件(620)沿進氣孔(110)的軸向移動,所述連接件(630)的一端與所述支撐件(620)連接,另一端與所述間隔件(200)連接。
7.根據權利要求1所述的半導體工藝設備,其特征在于,所述線圈(300)包括立體線圈(340)和/或平面線圈(320),所述立體線圈(340)沿所述進氣孔(110)的軸向延伸,所述平面線圈(320)沿垂直于所述進氣孔(110)的軸向的方向延伸。
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