[發明專利]噴淋式進氣CVD動態混氣裝置在審
| 申請號: | 202010542448.1 | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN111560603A | 公開(公告)日: | 2020-08-21 |
| 發明(設計)人: | 于葛亮;張錦;劉偉銘;康斯坦丁·諾沃舍洛夫;孫正乾;楊金東 | 申請(專利權)人: | 無錫盈芯半導體科技有限公司;北京大學 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;涂三民 |
| 地址: | 214187 江蘇省無錫*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴淋 式進氣 cvd 動態 裝置 | ||
1.一種噴淋式進氣CVD動態混氣裝置,包括法蘭(1)、混合罐(2)、定子(3)、進氣接頭(4)、出氣接頭(5)、葉片軸(6)、葉片(7)、主軸(8)、強磁線圈(9)與密封用磁性粉末(10);
其特征是:在法蘭(1)的右側壁上呈密封固定有混合罐(2),在法蘭(1)的左側壁上呈密封固定有定子(3),在法蘭(1)上或者混合罐(2)上固定有兩個進氣接頭(4),在混合罐(2)上固定有出氣接頭(5),在混合罐(2)內轉動安裝有葉片軸(6),在葉片軸(6)上固定有葉片(7);在定子(3)內轉動安裝有主軸(8),主軸(8)與葉片軸(6)呈一體式同軸連接,在主軸(8)內固定有強磁線圈(9),在主軸(8)的外壁與定子(3)的內壁之間設有密封用磁性粉末(10)。
2.根據權利要求1所述的噴淋式進氣CVD動態混氣裝置,其特征是:所述葉片(7)包括正向吹風葉片(71)與反向吹風葉片(72),在葉片軸(6)上固定有呈間隔設置的正向吹風葉片(71)與反向吹風葉片(72),相鄰兩個正向吹風葉片(71)之間設有一個反向吹風葉片(72),相鄰兩個反向吹風葉片(72)之間設有一個正向吹風葉片(71)。
3.根據權利要求1所述的噴淋式進氣CVD動態混氣裝置,其特征是:所述混合罐(2)的出氣端為圓錐形罐體,在圓錐形罐體的內壁面上設有氣體導流旋轉螺紋(11),在圓錐形罐體的錐頂位置固定有所述的出氣接頭(5)。
4.根據權利要求1所述的噴淋式進氣CVD動態混氣裝置,其特征是:所述兩個進氣接頭(4)分別固定在法蘭(1)的直徑兩端,進氣接頭(4)的出氣方向與葉片軸(6)的軸線方向一致,在靠近法蘭(1)的混合罐(2)內壁上設有與進氣接頭(4)的出氣端位置配合的擋板(12)。
5.根據權利要求1所述的噴淋式進氣CVD動態混氣裝置,其特征是:所述進氣接頭(4)固定在靠近法蘭(1)的混合罐(2)上,兩個進氣接頭(4)的出氣方向為混合罐(2)的直徑方向且呈對向設置。
6.根據權利要求1所述的噴淋式進氣CVD動態混氣裝置,其特征是:所述葉片軸(6)與混合罐(2)呈同軸設置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





