[發(fā)明專利]成膜裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010542182.0 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN111647870A | 公開(公告)日: | 2020-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 松崎淳介;高橋明久;水島優(yōu) | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社愛發(fā)科 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/34;H01L21/677;B65G49/00;B65G47/26 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張澤洲;王麗輝 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
提供使用多個基板保持器、對基板的兩面能夠高效率地成膜、小型且結(jié)構(gòu)簡單的通過型的成膜裝置。在真空槽(2)內(nèi)具備對保持于基板保持器的基板(10)上進(jìn)行成膜的第1及第2成膜區(qū)域(4、5)、相對于鉛垂面的投影形狀形成為連續(xù)的環(huán)狀地設(shè)置成通過第1及第2成膜區(qū)域的搬運路徑、在使多個基板保持器水平的狀態(tài)下沿搬運路徑搬運的基板保持器搬運機(jī)構(gòu)。基板保持器搬運機(jī)構(gòu)具備與設(shè)置于各基板保持器的被驅(qū)動部接觸而使基板保持器向移動方向推壓來移動的多個驅(qū)動部,該驅(qū)動部關(guān)于相鄰的基板保持器,以移動方向下游側(cè)的基板保持器的移動方向上游側(cè)的端部、移動方向上游側(cè)的基板保持器的移動方向下游側(cè)的端部接近的狀態(tài)在第1及第2成膜區(qū)域搬運。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在真空中對保持于基板保持器的基板的兩面進(jìn)行通過成膜的成膜裝置的技術(shù)。
背景技術(shù)
以往,已知將多個被成膜基板分別載置于托盤等基板保持器來進(jìn)行通過成膜(通過成膜)的成膜裝置。
作為這樣的成膜裝置,將作為成膜對象的基板向真空槽內(nèi)導(dǎo)入(裝載)來使基板保持器保持,將成膜已結(jié)束的基板從基板保持器卸下來向真空槽外排出(卸載)。
在現(xiàn)有技術(shù)的方案中,基板在從裝載位置至卸載位置,其成膜面被水平地保持,沿在水平面內(nèi)構(gòu)成的環(huán)狀的搬運路徑移動的同時,進(jìn)行各處理。
結(jié)果,在這樣的現(xiàn)有技術(shù)中,有無法避免成膜裝置的大型化及復(fù)雜化的問題。
此外,在將保持著各基板的多個基板保持器搬運來進(jìn)行通過成膜的情況下,優(yōu)選地使成膜的效率盡可能大。
但是,進(jìn)行這樣的通過成膜的裝置中有難以高效率地進(jìn)行成膜的問題。
特別地,在對基板的兩面進(jìn)行成膜的裝置中,也有上述問題會更嚴(yán)重的問題。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2007-031821號公報。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮這樣的以往的技術(shù)問題而作出的,其目的在于,提供一種成膜裝置,前述成膜裝置使用多個基板保持器,對于基板的兩面能夠高效率地成膜,且為小型且簡單的結(jié)構(gòu),該成膜裝置是通過型的。
用于實現(xiàn)上述目的的本發(fā)明是一種成膜裝置,前述成膜裝置具備真空槽、第1成膜區(qū)域、第2成膜區(qū)域、基板保持器搬運機(jī)構(gòu),前述真空槽形成單一的真空氛圍,前述第1成膜區(qū)域設(shè)置于前述真空槽內(nèi),在保持于基板保持器的基板處形成第1膜,前述第2成膜區(qū)域設(shè)置于前述真空槽內(nèi)的前述第1成膜區(qū)域的下方或上方的某一方,在保持于前述基板保持器的前述基板形成第2膜,前述基板保持器搬運機(jī)構(gòu)使多個前述基板保持器通過第1成膜區(qū)域和前述第2成膜區(qū)域,前述基板保持器搬運機(jī)構(gòu)具有搬運路徑和驅(qū)動部,前述搬運路徑形成為,投影至鉛垂面的形狀為環(huán)狀的形狀,前述驅(qū)動部與設(shè)置于前述多個基板保持器的被驅(qū)動部接觸,在維持前述基板保持器的水平狀態(tài)的同時,推壓前述被驅(qū)動部,使前述基板保持器沿前述搬運路徑移動,前述搬運機(jī)構(gòu)具有第1搬運部和第2搬運部,前述第1搬運部被從前述第1成膜區(qū)域的一端遍及至另一端地配置,借助前述驅(qū)動部使前述基板保持器通過前述第1成膜區(qū)域,前述第2搬運部被從前述第2成膜區(qū)域的一端遍及至另一端地配置,借助前述驅(qū)動部使前述基板保持器通過前述第2成膜區(qū)域,在前述基板保持器搬運機(jī)構(gòu)設(shè)置有搬運折回部,前述搬運折回部在維持前述基板保持器的水平狀態(tài)的同時使前述基板保持器從前述第1搬運部向前述第2搬運部移動,在前述搬運機(jī)構(gòu),設(shè)置有使前述驅(qū)動部從前述第2搬運部向前述第1搬運部移動的驅(qū)動部折回部。
此外,本發(fā)明的成膜裝置為,在前述基板保持器的移動方向的下游側(cè)的端部和移動方向的上游側(cè)的端部,設(shè)置有將成膜材料屏蔽的突出狀的屏蔽部。
本發(fā)明的成膜裝置為,相鄰地移動的兩個前述基板保持器的前述屏蔽部中,先移動的前述基板保持器的前述移動方向的下游側(cè)的前述屏蔽部和后移動的前述基板保持器的前述移動方向的上游側(cè)的前述屏蔽部形成為,距前述基板保持器的底面的高度不同,配置成移動時重合。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





