[發明專利]蒸鍍掩模用基材及其制造方法、蒸鍍掩模及顯示裝置的制造方法

在審

• 申請號: 202010540876.0
• 申請日: 2018-03-22
• 公開（公告）號: CN111575647A
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 新納干大
• 申請（專利權）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C25D3/12;C25D7/00;C21D1/26;C21D8/02;C21D9/00;C23F1/28;C22C38/04;C22C38/52;C21D6/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 牛玉婷

提供一種能夠提高通過蒸鍍形成的圖案的精度的蒸鍍掩模用基材、蒸鍍掩模用基材的制造方法、蒸鍍掩模的制造方法及顯示裝置的制造方法。金屬板的長度方向DL上的各位置處的沿著金屬板的寬度方向的形狀互不相同；各形狀具有在金屬板的寬度方向DW上反復的波；從波的一個谷連結到另一個谷的寬度方向的直線的長度是波的長度；波的高度相對于波的長度的百分率是單位陡峭度；長度方向DL上的金屬板的單位長度是500mm；單位長度的金屬板中的單位陡峭度的最大值是第1陡峭度；第1陡峭度是0.5％以下。

本申請是申請日為2018年3月22日、申請號為201810238626.4、發明名稱為《蒸鍍掩模用基材及其制造方法、蒸鍍掩模及顯示裝置的制造方法》的分案申請。

技術領域

本發明涉及蒸鍍掩模用基材、蒸鍍掩模用基材的制造方法、蒸鍍掩模的制造方法及顯示裝置的制造方法。

背景技術

蒸鍍掩模具備第1面、第2面和從第1面貫通到第2面的孔。第1面與基板等的對象物對置，第2面位于與第1面相反側。孔具備位于第1面的第1開口和位于第2面的第2開口。從第2開口進入到孔中的蒸鍍物質在對象物形成追隨于第1開口的位置及第1開口的形狀的圖案(例如，參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開2015－055007號公報

蒸鍍掩模具備的孔具有從第1開口朝向第2開口擴大的截面積，由此，提高從第2開口進入孔中的蒸鍍物質的數量，確保到達第1開口的蒸鍍物質的數量。另一方面，從第2開口進入孔中的蒸鍍物質的至少一部分沒有到達第1開口而是附著到劃分孔的壁面上。附著在壁面上的蒸鍍物質妨礙其他蒸鍍物質對孔的穿過，使圖案具有的尺寸的精度下降。

近年來，以使附著在壁面上的蒸鍍物質的體積下降為目的，研究了使蒸鍍掩模的厚度變薄、使壁面的面積本身縮小。并且，作為使蒸鍍掩模的厚度變薄的技術，研究了使作為用來制造蒸鍍掩模的基材的金屬板的厚度本身變薄。

另一方面，在金屬板形成孔的蝕刻的工序中，金屬板的厚度越薄，被除去的金屬的體積越小。因此，對金屬板供給蝕刻液的時間及供給的蝕刻液的溫度等的加工條件的容許范圍變窄，結果，難以在第1開口及第2開口的尺寸中得到足夠的精度。特別是，在制造金屬板的技術中，使用通過輥將母材延伸的軋制、或將析出到電極上的金屬板從電極剝離的電解，在金屬板本身上形成有波形狀。對于具有這樣的形狀的金屬板，使金屬板與蝕刻液接觸的時間例如在波形狀的山部與波形狀的谷部之間較大地不同。從而使伴隨著上述容許范圍的窄小化的精度的下降更深刻化。如以上這樣，使蒸鍍掩模的厚度變薄的技術使附著在壁面上的蒸鍍物質的量下降，由此能提高蒸鍍的反復進行下的圖案的尺寸的精度，但通過蒸鍍，會新招致難以得到圖案的尺寸所需要的精度這樣的課題。

發明內容

本發明的目的是提供一種能夠提高通過蒸鍍形成的圖案的精度的蒸鍍掩模用基材、蒸鍍掩模用基材的制造方法、蒸鍍掩模的制造方法及顯示裝置的制造方法。

用來解決上述課題的蒸鍍掩模用基材，是用于通過蝕刻而形成多個孔來制造蒸鍍掩模的、作為具有帶狀的金屬板的蒸鍍掩模用基材，上述金屬板具有長度方向和寬度方向，上述金屬板的上述長度方向上的各位置處的沿著上述寬度方向的形狀相互不同，各形狀具有在上述寬度方向上反復的波；各波在其兩側分別具有谷，從上述波的一個谷連結到另一個谷的寬度方向的直線的長度是波的長度；上述波的高度相對于上述波的長度的百分比是單位陡峭度；上述長度方向上的上述金屬板的單位長度是500mm；上述單位長度的金屬板中的上述單位陡峭度的最大值是第1陡峭度；上述第1陡峭度是0.5％以下。