[發(fā)明專利]三維打印方法、裝置、計算機(jī)設(shè)備和存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010540174.2 | 申請日: | 2020-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN111645315B | 公開(公告)日: | 2023-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮玉林;鄧偉平;付濤 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳銳灃科技有限公司 |
| 主分類號: | B29C64/10 | 分類號: | B29C64/10;B29C64/20;B29C64/386;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/00;B33Y50/02 |
| 代理公司: | 北京金誠同達(dá)律師事務(wù)所 11651 | 代理人: | 萬鵬 |
| 地址: | 518110 廣東省深圳市龍華區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三維 打印 方法 裝置 計算機(jī) 設(shè)備 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種三維打印方法,其特征在于,包括以下步驟:
在打印三維產(chǎn)品的第一層至預(yù)設(shè)層的過程中,將打印信息與通孔信息進(jìn)行融合,得到避孔打印信息;所述打印信息包括所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的打印圖形以及所述打印圖形投射在成型平臺上的第一位置信息;所述通孔信息包括所述成型平臺上各通孔的通孔圖形以及對應(yīng)的第二位置信息;所述第一位置信息為在所述成型平臺上建立的坐標(biāo)系內(nèi)的坐標(biāo)信息;所述坐標(biāo)系以所述成型平臺的中心為坐標(biāo)原點,垂直于所述成型平臺的Z軸,在所述成型平臺的產(chǎn)品承載面選擇互相垂直的X軸和Y軸;所述第一位置信息根據(jù)紫外投射設(shè)備預(yù)先設(shè)定的投射位置來確定,或者根據(jù)所述打印圖形實際投射來實時獲取;
根據(jù)所述避孔打印信息,控制紫外投射設(shè)備投射所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的避孔打印圖形;所述避孔打印圖形繞開所述成型平臺上的所述第一位置信息內(nèi)的通孔;
其中,所述將打印信息與通孔信息進(jìn)行融合,得到避孔打印信息的步驟,包括以下步驟:
將所述第一位置信息與各所述第二位置信息進(jìn)行比對,獲取各所述第二位置信息中與所述第一位置信息重疊的待避孔位置信息;
在所述打印圖形上剔除掉各所述待避孔位置信息對應(yīng)的通孔圖形,得到所述避孔打印信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維打印方法,其特征在于,所述將打印信息與通孔信息進(jìn)行融合,得到避孔打印信息的步驟之前,還包括步驟:
獲取所述成型平臺的產(chǎn)品承載面的圖像信息;
分析所述圖像信息,識別所述成型平臺上的通孔信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的三維打印方法,其特征在于,所述獲取所述成型平臺的產(chǎn)品承載面的圖像信息的步驟中:
控制攝像頭采集所述成型平臺的產(chǎn)品承載面的圖像信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維打印方法,其特征在于,所述將打印信息與通孔信息進(jìn)行融合,得到避孔打印信息的步驟之前,還包括步驟:
控制所述紫外投射設(shè)備投射所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的打印圖形;所述打印圖形覆蓋所述成型平臺對應(yīng)位置上的通孔;
控制攝像頭識別所述打印圖形投射在所述成型平臺上的所述第一位置信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項所述的三維打印方法,其特征在于,所述根據(jù)所述避孔打印信息,控制紫外投射設(shè)備投射所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的避孔打印圖形的步驟之后,還包括步驟:
在打印所述三維產(chǎn)品的剩余層的過程中,根據(jù)所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的打印圖形,控制紫外投射設(shè)備投射所述打印圖形;所述打印圖形覆蓋所述成型平臺上對應(yīng)的所述第一位置信息內(nèi)的通孔。
6.一種三維打印裝置,其特征在于,包括:
信息處理模塊,用于在打印三維產(chǎn)品的第一層至預(yù)設(shè)層的過程中,將打印信息與通孔信息進(jìn)行融合,得到避孔打印信息;所述打印信息包括所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的打印圖形以及所述打印圖形投射在成型平臺上的第一位置信息;所述通孔信息包括所述成型平臺上各通孔的通孔圖形以及對應(yīng)的第二位置信息;所述第一位置信息為在所述成型平臺上建立的坐標(biāo)系內(nèi)的坐標(biāo)信息;所述坐標(biāo)系以所述成型平臺的中心為坐標(biāo)原點,垂直于所述成型平臺的Z軸,在所述成型平臺的產(chǎn)品承載面選擇互相垂直的X軸和Y軸;所述第一位置信息根據(jù)紫外投射設(shè)備預(yù)先設(shè)定的投射位置來確定,或者根據(jù)所述打印圖形實際投射來實時獲取;
控制模塊,用于根據(jù)所述避孔打印信息,控制紫外投射設(shè)備投射所述三維產(chǎn)品的當(dāng)前層的避孔打印圖形;所述避孔打印圖形繞開所述成型平臺上的所述第一位置信息內(nèi)的通孔;
其中,信息處理模塊包括:
信息對比單元,用于將所述第一位置信息與各所述第二位置信息進(jìn)行比對,獲取各所述第二位置信息中與所述第一位置信息重疊的待避孔位置信息;
圖形處理單元,用于在所述打印圖形上剔除掉各所述待避孔位置信息對應(yīng)的通孔圖形,得到所述避孔打印信息。
7.一種計算機(jī)設(shè)備,包括存儲器和處理器,所述存儲器存儲有計算機(jī)程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計算機(jī)程序時實現(xiàn)權(quán)利要求1至5中任意一項所述方法的步驟。
8.一種計算機(jī)可讀存儲介質(zhì),其上存儲有計算機(jī)程序,其特征在于,所述計算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)權(quán)利要求1至5中任意一項所述的方法的步驟。
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