[發明專利]一種小區測量方法及裝置

在審

• 申請號: 202010535917.7
• 申請日: 2020-06-12
• 公開（公告）號: CN113810924A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 劉海義;徐波;趙辰;師江偉;王洲
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: H04W24/02
• 分類號: H04W24/02;H04W36/00;H04W36/08;H04W36/30
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 趙玲

1.一種小區測量方法，其特征在于，包括：

基站向終端設備發送第一測量配置信息；所述第一測量配置信息包括第一目標小區的測量間隙測量gap配置信息和第二目標小區的測量gap配置信息；

其中，所述第一目標小區和所述第二目標小區為所述終端設備待測量的小區，且所述第一目標小區的小區頻點與所述第二目標小區的小區頻點不同。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

所述基站接收來自所述終端設備的第一測量信息；所述第一測量信息包括：所述終端設備的服務小區與所述第一目標小區的第一定時偏差信息；

所述第一目標小區的測量gap配置信息為根據所述第一目標小區相對所述服務小區的同步信號測量定時配置SMTC信息確定的；所述第一目標小區相對所述服務小區的SMTC信息為根據所述第一定時偏差信息及所述第一目標小區的SMTC信息確定的。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述測量gap配置信息包括：測量gap偏移量；

所述第一目標小區的測量gap偏移量為根據所述第一目標小區相對所述服務小區的SMTC信息中包括的SMTC偏移量確定的。

4.如權利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述測量gap配置信息還包括：測量gap周期；所述第一目標小區的SMTC信息包括：所述第一目標小區的SMTC周期；所述第二目標小區的SMTC信息包括：所述第二目標小區的SMTC周期；

所述第一目標小區的測量gap周期為根據所述第一目標小區的SMTC周期和所述第二目標小區的SMTC周期確定的；所述第一目標小區的測量gap周期大于所述第一目標小區的SMTC周期；和/或，所述第一目標小區的測量gap周期大于所述第二目標小區的SMTC周期。

5.如權利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

所述基站向所述終端設備發送第二測量配置信息；所述第二測量配置信息用于指示第三目標小區的測量gap配置信息；所述第三目標小區的小區頻點與所述第一目標小區的小區頻點相同；所述第三目標小區的測量gap配置信息與所述第一目標小區的測量gap配置信息相同。

6.如權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

所述基站接收所述終端設備上報的能力；所述能力用于指示所述終端設備在測量第一頻點下不配置測量gap配置信息；

所述基站向所述終端設備發送第三測量配置信息；所述第三測量配置信息用于指示所述終端設備在測量第四目標小區時不配置測量gap；其中，所述第四目標小區的小區頻點為所述第一頻點；所述第一頻點與所述第一目標小區的小區頻點和所述第二目標小區的小區頻點均不同。

7.一種小區測量方法，其特征在于，包括：

終端設備從基站接收第一測量配置信息，所述第一測量配置信息包括第一目標小區的測量間隙測量gap配置信息和第二目標小區的測量gap配置信息；

所述終端設備在所述第一目標小區的測量gap配置信息對應的時間窗口上對所述第一目標小區的參考信號進行測量；以及在所述第二目標小區的測量gap配置信息對應的時間窗口上對所述第二目標小區的參考信號進行測量。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，所述終端設備從基站接收第一測量配置信息之前，還包括：

所述終端設備向所述基站發送第一測量信息；所述第一測量信息包括：所述終端設備的服務小區與所述第一目標小區的第一定時偏差信息；

所述第一定時偏差信息用于確定所述第一目標小區相對所述終端設備的服務小區的同步信號測量定時配置SMTC信息；所述第一目標小區的測量gap配置信息為根據所述第一目標小區相對所述終端設備的服務小區的SMTC信息確定的。