[發(fā)明專利]鍍覆裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010533757.2
• 申請日: 2020-06-12
• 公開（公告）號: CN112080781A
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發(fā)明（設計）人: 平尾智則
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: C25D17/02
• 分類號: C25D17/02;C25D17/06;C25D7/12;C25D21/12
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

1.一種鍍覆裝置，用于對基板進行鍍覆處理，所述鍍覆裝置的特征在于，具有：

基板保持架，該基板保持架用于保持基板；

遮蔽板，該遮蔽板與所述基板保持架相鄰配置；以及

移動機構，該移動機構用于使所述遮蔽板向靠近所述基板保持架的方向以及遠離所述基板保持架的方向移動，

所述遮蔽板構成為，能夠通過所述移動機構來向所述基板保持架側移動，從而與所述基板保持架接觸，

所述基板保持架劃定使所保持的基板的一部分露出的開口，

所述遮蔽板劃定開口，所述遮蔽板的所述開口的尺寸比所述基板保持架的開口小。

2.根據(jù)權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述遮蔽板具有能夠與所述基板保持架接觸的密封部件。

3.根據(jù)權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述基板保持架具有能夠與所述遮蔽板接觸的密封部件。

4.根據(jù)權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述移動機構包括流體彈簧。

5.根據(jù)權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

還具有能夠容納所述基板保持架以及所述遮蔽板的鍍覆槽。

6.根據(jù)權利要求5所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述鍍覆槽具有用于支承所述遮蔽板的支承部件。

7.根據(jù)權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述移動機構構成為能夠在鍍覆處理中變更所述基板保持架與所述遮蔽板之間的距離。

8.根據(jù)權利要求7所述的鍍覆裝置，其特征在于，

具有用于控制所述移動機構的動作的控制裝置。