[發(fā)明專利]等離子體處理裝置和等離子體處理方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010531470.6
• 申請日: 2020-06-11
• 公開（公告）號: CN112117178A
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設計）人: 山田和人;遠藤宏紀;佐藤貴志
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種等離子體處理裝置，其特征在于，具備：

腔室；

基板支承器，其設置于所述腔室內(nèi)，所述基板支承器具有下部電極、設置于該下部電極上的靜電吸盤以及設置于該靜電吸盤內(nèi)的電阻加熱元件即加熱器；

高頻電源，其與所述下部電極電連接；

直流電源，其構成為向配置于所述基板支承器上的邊緣環(huán)施加負極性的電壓；

第一控制裝置，其構成為控制所述高頻電源和所述直流電源；以及

第二控制裝置，其構成為控制從加熱器電源向所述加熱器供給的電力，以減小所述加熱器的當前溫度與設定溫度之間的差，

其中，所述第一控制裝置控制所述高頻電源，以按照以第一頻率規(guī)定的周期向所述下部電極供給脈沖狀的高頻電力，并控制所述直流電源，以按照該周期向所述邊緣環(huán)施加脈沖狀的負極性的電壓，

所述第二控制裝置具有加熱器控制器，所述加熱器控制器構成為根據(jù)向所述加熱器供給的電流的采樣值和向所述加熱器施加的電壓的采樣值來求出所述加熱器的電阻值，并根據(jù)該電阻值確定出所述當前溫度，來控制所述電力，

所述第一頻率與第二頻率不同，所述第二頻率是所述第二控制裝置中的所述電流的所述采樣值和所述電壓的所述采樣值的采樣頻率。

2.根據(jù)權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

所述第一頻率和所述第二頻率中的一方與所述第一頻率和所述第二頻率中的另一方的約數(shù)不同，且所述第一頻率和所述第二頻率中的所述另一方與所述第一頻率和所述第二頻率中的所述一方的約數(shù)不同。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

還具備電容器，該電容器在所述第二控制裝置與所述加熱器之間連接于將所述加熱器與所述加熱器電源電連接的一對線路間。

4.根據(jù)權利要求1～3中的任一項所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

所述第二控制裝置還具有電流測定器和電壓測定器，所述電流測定器構成為測定向所述加熱器供給的所述電流，所述電壓測定器構成為測定向所述加熱器施加的所述電壓，

所述加熱器控制器構成為根據(jù)由所述電流測定器測定出的所述電流的所述采樣值和由所述電壓測定器測定出的所述電壓的所述采樣值，來求出所述電阻值。

5.根據(jù)權利要求1～4中的任一項所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

所述第二控制裝置還具有開關器件，該開關器件連接在所述加熱器與所述加熱器電源之間，

所述加熱器控制器構成為通過控制所述開關器件的導通狀態(tài)，來控制所述電力。

6.根據(jù)權利要求1～5中的任一項所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

所述加熱器控制器構成為使用包括所述電阻值、依次求出的所述加熱器的多個電阻值的平均值來確定所述當前溫度。