[發(fā)明專利]一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010530548.2
• 申請(qǐng)日: 2020-06-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111560591A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張紅;鞏燕龍;鄭琦林;劉月豹;凌穎;高峰;張浩;石榮飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽方興光電新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56;C23C14/10;C23C14/08;C08J7/06
• 代理公司: 昆明合眾智信知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 53113
• 代理人: 周勇

1.一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，其特征在于：包括如下步驟：

將成卷的柔性PET基材放置于放卷輥輪上，牽引柔性PET基材一端經(jīng)過(guò)低溫鍍膜室纏繞在收卷輥輪上，利用收卷輥輪提供動(dòng)力牽引柔性PET基材放卷并在收卷輥輪上進(jìn)行纏繞收集；

PET基材在低溫鍍膜室內(nèi)依次經(jīng)過(guò)底層SiO₂鍍膜區(qū)、ITO鍍膜區(qū)和表層SiO₂鍍膜區(qū)；

向ITO鍍膜區(qū)通入氬氣和氧氣的混合氣體，并控制氧氣通入量在氣體總通入量中的占比為2.3％；

鍍膜完成后的柔性柔性PET基材從收卷輥輪上取出，并通過(guò)清洗烘干裝置進(jìn)行清洗烘干。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，其特征在于：PET基材表面從上到下依次鍍有面層SiO₂膜材(1)_、ITO膜材(2)和底層SiO₂膜材(3)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，其特征在于：收卷輥輪帶動(dòng)柔性PET基材的移動(dòng)速度為2m/s,底層SiO₂鍍膜區(qū)功率為8-16kw、ITO鍍膜區(qū)功率為15-20kw、表層SiO2鍍膜區(qū)功率為2.4-4kw。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，其特征在于：所述面層SiO₂膜材(1)的厚度為3-5nm，所述底層SiO₂膜材(3)的厚度為10-20nm。