[發(fā)明專利]一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010530548.2
• 申請日: 2020-06-11
• 公開（公告）號: CN111560591A
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發(fā)明（設計）人: 張紅;鞏燕龍;鄭琦林;劉月豹;凌穎;高峰;張浩;石榮飛
• 申請（專利權）人: 安徽方興光電新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/10;C23C14/08;C08J7/06
• 代理公司: 昆明合眾智信知識產(chǎn)權事務所 53113
• 代理人: 周勇

本發(fā)明公開了一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，將成卷的柔性PET基材放置于放卷輥輪上，牽引柔性PET基材一端經(jīng)過低溫鍍膜室纏繞在收卷輥輪上，利用收卷輥輪提供動力牽引柔性PET基材放卷并在收卷輥輪上進行纏繞收集；PET基材在低溫鍍膜室內(nèi)依次經(jīng)過底層SiO₂鍍膜區(qū)、ITO鍍膜區(qū)和表層SiO₂鍍膜區(qū)；向ITO鍍膜區(qū)通入氬氣和氧氣的混合氣體，并控制氧氣通入量在氣體總通入量中的占比為2.3％；鍍膜完成后的PET基材從收卷輥輪上取出，并通過清洗烘干裝置進行清洗烘干，本發(fā)明通過不斷試驗找到合適的氧氣通入量從而改善ITO層的結構，省卻了一道PET基材的加熱工序，保證了方阻恒定，提高加工效益且降低了能耗，同時提高了ITO膜層的穩(wěn)定性。

技術領域

本發(fā)明涉及ITO鍍膜技術領域，具體為一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝。

背景技術

低溫磁控濺射技術是一種當下大規(guī)模應用于生產(chǎn)的鍍膜技術，低溫磁控濺射具有成膜速率高，基片溫度低，可實現(xiàn)大面積鍍膜等優(yōu)點，因此多數(shù)柔性導電膜是用此種技術生產(chǎn)的，但是，運用低溫磁控濺射技術生產(chǎn)出來的膜存在著膜質(zhì)松散、電阻均勻性與穩(wěn)定性較差的缺點；

當下手寫板作為一種便捷的手繪工具深受消費者喜愛，市場前景廣闊，本公司在對手寫板的黑膜或霧膜PET基材進行上述低溫磁控濺射技術鍍膜后，通過檢測發(fā)現(xiàn)膜層電阻均勻性較差，為了解決上述問題，當下傳統(tǒng)的處理方式是增加一道加熱工序，來使其方阻恒定，這是因為低溫鍍膜時，溫度一般在80℃以下，ITO層的結晶度不夠，所以才需要加熱，來以此提高ITO層結晶度，讓方阻恒定，上述處理方式單純?yōu)榱苏{(diào)節(jié)膜質(zhì)而進行加熱會增加生產(chǎn)成本，影響加工效益且能耗較高。

本發(fā)明的目的在于研究出的新的改良方案，在不增加加熱工序的前提下即可獲得恒定的方阻，可直接用于手寫板上的一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：

一種加熱前后方阻恒定的低溫鍍膜工藝，包括如下步驟：

將成卷的柔性PET基材放置于放卷輥輪上，牽引柔性PET基材一端經(jīng)過低溫鍍膜室纏繞在收卷輥輪上，利用收卷輥輪提供動力牽引柔性PET基材放卷并在收卷輥輪上進行纏繞收集；

PET基材在低溫鍍膜室內(nèi)依次經(jīng)過底層SiO₂鍍膜區(qū)、ITO鍍膜區(qū)和表層SiO₂鍍膜區(qū)；

向ITO鍍膜區(qū)通入氬氣和氧氣的混合氣體，并控制氧氣通入量在氣體總通入量中的占比為2.3％；

鍍膜完成后的柔性柔性PET基材從收卷輥輪上取出，并通過清洗烘干裝置進行清洗烘干。

優(yōu)選的，PET基材表面從上到下依次鍍有面層SiO₂膜材、ITO膜材和底層SiO₂膜材。

優(yōu)選的，收卷輥輪帶動柔性PET基材的移動速度為2m/s,底層SiO₂鍍膜區(qū)功率為8-16kw、ITO鍍膜區(qū)功率為15-20kw、表層SiO₂鍍膜區(qū)功率為2.4-4kw。

優(yōu)選的，所述面層SiO₂膜材的厚度為3-5nm，所述底層SiO₂膜材的厚度為10-20nm。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：

1、本發(fā)明省卻了一道PET基材的加熱工序，通過不斷試驗找到合適的氧氣通入量從而改善ITO層的結構，使得導電膜不需要加熱也可得到恒定的方阻，提高加工效益且降低了能耗；