[發明專利]一種在碳化硅表面鍍銀的方法在審
| 申請號: | 202010530126.5 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN111663124A | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發明(設計)人: | 劉亞華;李天然;詹海洋 | 申請(專利權)人: | 大連理工大學 |
| 主分類號: | C23C18/44 | 分類號: | C23C18/44;C23C18/18;C25D3/46;C25D5/54;C23C28/02 |
| 代理公司: | 大連理工大學專利中心 21200 | 代理人: | 李曉亮;潘迅 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 碳化硅 表面 鍍銀 方法 | ||
1.一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)除油:通過在除油劑中超聲處理碳化硅,對其表面進行除油;
(2)粗化:通過在粗化劑中超聲處理碳化硅,對其表面進行粗化;
(3)敏化:通過在敏化劑中超聲處理碳化硅,對其表面進行敏化;
(4)活化:通過在活化劑中超聲處理碳化硅,對其表面進行活化;
(5)還原:通過還原劑對碳化硅表面進行還原處理;
(6)化學鍍:配制A液和B液,將碳化硅放入B液中,將A液按1:1的比例與B液混合預鍍銀;
所述化學鍍A液由硝酸銀、氫氧化鈉、氨水、水組成,其各組分質量分數為:質量分數5.4%的硝酸銀、質量分數2.3%的氫氧化鈉、一定量的氨水,其余為水,氨水可完全溶解反應中產生的沉淀;化學鍍A液配置過程為:首先,將硝酸銀溶入水中,在不攪拌的情況下加入氨水將直到析出的氧化銀沉淀完全溶解;其次,加入氫氧化鈉,溶液再次析出沉淀變黑;最后,在不攪拌的情況下加入氨水直到沉淀完全溶解,溶液變清澈為止,并控制A液的PH值為13.2;
所述化學鍍B液由葡萄糖、酒石酸、乙醇、水組成,其各組分質量分數為:質量分數4.2%的葡萄糖、質量分數0.4%的酒石酸、質量分數1%的乙醇,其余為水;化學鍍B液配置過程為:葡萄糖和酒石酸溶于水中煮沸冷卻后加入乙醇;
(7)電鍍:將步驟(6)預鍍銀后的碳化硅作為陰極,銀板作為陽極,在電解液中進行電鍍,再次鍍上一層銀;
所述電鍍液由咪唑、磺基水楊酸、硝酸銀、乙酸鉀、水組成,其各組分質量分數為:質量分數10%的咪唑、質量分數12%的磺基水楊酸、質量分數1.4%的硝酸銀、質量分數3.6%的乙酸鉀、其余為水;電鍍電流為0.2A/dm2,觀察表面直至出現均勻銀鍍層。
2.根據權利要求1所述的一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,所述除油劑為質量分數10%的氫氧化鈉溶液,超聲處理時間為5分鐘。
3.根據權利要求1所述的一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,所述粗化劑為質量分數10%的硝酸溶液,超聲處理時間為2分鐘。
4.根據權利要求1所述的一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,所述敏化劑由鹽酸、二水合氯化硅、水組成,其各組分質量分數為:質量分數2%的鹽酸、質量分數2.8%的二水合氯化硅,其余為水;超聲處理時間為30分鐘。
5.根據權利要求1所述的一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,所述活化劑由鹽酸、氯化亞錫、水組成,其各組分質量分數為:含有如下組成成分:質量分數0.37%的鹽酸、質量分數0.05%氯化亞錫,其余為水;超聲處理時間為5分鐘。
6.根據權利要求1所述的一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,所述還原劑為濃度為25g/L的次磷酸二氫鈉溶液,超聲處理5分鐘。
7.根據權利要求1-6任一所述的一種在碳化硅表面鍍銀的方法,其特征在于,每一步驟進行前,都應將上一步驟處理的碳化硅板在去離子水中超聲清洗并烘干。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





