[發(fā)明專利]微流控流道結(jié)構(gòu)、檢測(cè)系統(tǒng)及其使用方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010529364.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113804658B | 公開(公告)日: | 2023-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 殷雨丹;于靜;劉浩男;劉祝凱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64;G01N33/543;G01N33/533;B01L3/00 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 于本雙 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微流控流道 結(jié)構(gòu) 檢測(cè) 系統(tǒng) 及其 使用方法 | ||
本申請(qǐng)涉及微流控技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種微流控流道結(jié)構(gòu)、檢測(cè)系統(tǒng)及其使用方法,目的是改善微流控檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)液的均勻性。一種微流控流道結(jié)構(gòu),包括:進(jìn)液流段、主腔室和出液流段,所述主腔室包括進(jìn)液端、腔室中部和出液端,所述進(jìn)液流段、進(jìn)液端、腔室中部、出液端和出液流段依次連接;從進(jìn)液流段至腔室中部方向,所述進(jìn)液端的寬度逐漸變大,且所述進(jìn)液端的隨寬度變化的邊緣位置設(shè)有減薄導(dǎo)流區(qū),所述減薄導(dǎo)流區(qū)的厚度小于所述主腔室中除所述減薄導(dǎo)流區(qū)外的其他區(qū)域的厚度。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及微流控技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種微流控流道結(jié)構(gòu)、檢測(cè)系統(tǒng)及其使用方法。
背景技術(shù)
微流控芯片這一名詞最初源于20世紀(jì)90年代Manz與Widmer提出微全分析系統(tǒng)(μTAS)。Manz教授成功的把MEMS技術(shù)運(yùn)用到分析化學(xué)領(lǐng)域,并在不久后在微芯片上實(shí)現(xiàn)了高速毛細(xì)管電泳,成果發(fā)表在《Science》等雜志上,從此這一領(lǐng)域迅速受到學(xué)界重視,并成為當(dāng)今世界上最前沿的科技領(lǐng)域之一。芯片實(shí)驗(yàn)室(Lab?on?a?chip)和微流控芯片(Microfluidic?Chip)都是人們對(duì)這一領(lǐng)域提出的不同名稱,而隨著這一學(xué)科的應(yīng)用從最初的分析化學(xué)拓展到多個(gè)研究與應(yīng)用領(lǐng)域,以及研究者對(duì)這一學(xué)科的深入理解,微流控芯片已經(jīng)成為對(duì)這一領(lǐng)域的統(tǒng)稱。
由于微流控芯片具有微結(jié)構(gòu)特征,其在進(jìn)液過程中容易出現(xiàn)樣本分布不均,出現(xiàn)氣泡或樣本滯留等問題,從而影響樣本利用率和檢測(cè)良率。
本申請(qǐng)公開了一種微流控流道結(jié)構(gòu)、檢測(cè)系統(tǒng)及其使用方法,目的是改善微流控檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)液的均勻性。
一種微流控流道結(jié)構(gòu),其中,包括:
進(jìn)液流段、主腔室和出液流段,所述主腔室包括進(jìn)液端、腔室中部和出液端,所述進(jìn)液流段、進(jìn)液端、腔室中部、出液端和出液流段依次連接;從進(jìn)液流段至腔室中部方向,所述進(jìn)液端的寬度逐漸變大,且所述進(jìn)液端的隨寬度變化的邊緣位置設(shè)有減薄導(dǎo)流區(qū),所述減薄導(dǎo)流區(qū)的厚度小于所述主腔室中除所述減薄導(dǎo)流區(qū)外的其他區(qū)域的厚度。
可選的,所述進(jìn)液端的所述邊緣呈圓弧形設(shè)計(jì),所述減薄導(dǎo)流區(qū)與所述進(jìn)液流段相連,且沿圓弧形的邊緣延伸。
可選的,所述進(jìn)液端呈半圓形,所述減薄導(dǎo)流區(qū)位于所述進(jìn)液端邊緣的半圓弧區(qū)域內(nèi)。
可選的,從腔室中部至出液流段方向,所述出液端的寬度逐漸變小。
可選的,所述出液端呈等腰三角形設(shè)計(jì)。
可選的,所述腔室中部呈方形設(shè)計(jì);所述方形相對(duì)的兩條邊中,一條邊與所述進(jìn)液端的圓弧形邊緣的弦長(zhǎng)重合,另一條邊與所述出液端的等腰三角形底邊重合。
可選的,所述腔室中部呈正方形。
可選的,所述主腔室中除所述減薄導(dǎo)流區(qū)外的其他區(qū)域的厚度一致。
可選的,所述減薄導(dǎo)流區(qū)的厚度與所述主腔室中其他區(qū)域的厚度之比為0.2-0.5。
可選的,所述減薄導(dǎo)流區(qū)從其外側(cè)弧形邊沿至其內(nèi)側(cè)弧形邊沿的方向厚度逐漸增大至與所述主腔室中除所述減薄導(dǎo)流區(qū)外的其他區(qū)域的厚度一致。
可選的,所述減薄導(dǎo)流區(qū)的厚度均勻一致。
可選的,所述進(jìn)液流段的厚度與所述減薄導(dǎo)流區(qū)的厚度一致。
可選的,所述出液流段的厚度與所述主腔室中除所述減薄導(dǎo)流區(qū)外的其他區(qū)域的厚度一致。
可選的,所述減薄導(dǎo)流區(qū)的寬度與所述進(jìn)液流段的寬度之比為0.5-2。
可選的,所述出液流段的寬度與所述進(jìn)液流段的寬度一致。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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