[發(fā)明專(zhuān)利]一種優(yōu)化撈渣的方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010528048.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111705283B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳剛;陳麗娟;彭煒;周詩(shī)正;宮貴良;劉傲;李金;楊芃;唐華 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 武漢鋼鐵有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C2/06 | 分類(lèi)號(hào): | C23C2/06;G06T7/00;G06T7/62;C23C2/00 |
| 代理公司: | 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570 | 代理人: | 原婧 |
| 地址: | 430080 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 優(yōu)化 方法 裝置 | ||
1.一種優(yōu)化撈渣的方法,其特征在于,包括:
通過(guò)攝像頭對(duì)預(yù)設(shè)撈渣區(qū)域進(jìn)行圖像采集,獲得撈渣區(qū)域圖,并在所述撈渣區(qū)域圖上確定多個(gè)待撈渣點(diǎn);
基于所述撈渣區(qū)域圖,獲得每個(gè)待撈渣點(diǎn)的位置優(yōu)先等級(jí);
基于所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣特征,獲得所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣特征等級(jí),包括:獲取所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣覆蓋區(qū)域的面積、所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的單位面積的鋅渣厚度、以及與所述鋅渣覆蓋區(qū)域的面積對(duì)應(yīng)的第一權(quán)重、與所述單位面積的鋅渣厚度對(duì)應(yīng)的第二權(quán)重;基于所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣覆蓋區(qū)域的面積、所述單位面積的鋅渣厚度、以及與所述鋅渣覆蓋區(qū)域的面積對(duì)應(yīng)的第一權(quán)重、與所述單位面積的鋅渣厚度對(duì)應(yīng)的第二權(quán)重,按照如下計(jì)算式,獲得所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣特征等級(jí):
其中,為所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣特征等級(jí),為所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的鋅渣覆蓋區(qū)域的面積,為所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的所述單位面積的鋅渣厚度,為與所述鋅渣覆蓋區(qū)域的面積對(duì)應(yīng)的第一權(quán)重,為與所述單位面積的鋅渣厚度對(duì)應(yīng)的第二權(quán)重;
基于所述位置優(yōu)先等級(jí)和所述鋅渣特征等級(jí),對(duì)所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)進(jìn)行評(píng)分,獲得所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí);
按照所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí),對(duì)所述多個(gè)待撈渣點(diǎn)進(jìn)行路徑規(guī)劃,獲得撈渣路徑;
控制撈渣機(jī)器人沿著所述撈渣路徑進(jìn)行撈渣。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述撈渣區(qū)域圖,獲得每個(gè)待撈渣點(diǎn)的位置優(yōu)先等級(jí),包括:
對(duì)所述撈渣區(qū)域圖進(jìn)行網(wǎng)格劃分,獲得N個(gè)矩形區(qū)域;其中,所述N個(gè)矩形區(qū)域的面積相等,N為大于等于2的整數(shù);
基于所述N個(gè)矩形區(qū)域分別與鋅鍋爐鼻子兩側(cè)的通道的距離關(guān)系,確定每個(gè)矩形區(qū)域的位置優(yōu)先等級(jí);
對(duì)所述每個(gè)矩形區(qū)域的位置優(yōu)先等級(jí)進(jìn)行標(biāo)注,獲得與所述撈渣區(qū)域圖對(duì)應(yīng)的網(wǎng)格圖;
基于所述網(wǎng)格圖,獲得所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的位置優(yōu)先等級(jí)。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的所述位置優(yōu)先等級(jí)和所述鋅渣特征等級(jí),對(duì)所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí)進(jìn)行評(píng)分,獲得所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí),包括:
基于所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的所述位置優(yōu)先等級(jí)和所述鋅渣特征等級(jí),按照如下計(jì)算式,對(duì)所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí)進(jìn)行評(píng)分,獲得所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí):
其中,為所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的所述鋅渣特征等級(jí),為所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的所述位置優(yōu)先等級(jí),為所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí)。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述按照所述每個(gè)待撈渣點(diǎn)的撈渣優(yōu)先等級(jí),對(duì)所述多個(gè)待撈渣點(diǎn)進(jìn)行路徑規(guī)劃,獲得撈渣路徑,包括:
按照所述撈渣優(yōu)先等級(jí)由高到低的順序,對(duì)所述多個(gè)待撈渣點(diǎn)進(jìn)行排序,獲得排序結(jié)果;
以所述撈渣機(jī)器人為原點(diǎn)建立基準(zhǔn)坐標(biāo),按照所述排序結(jié)果將所述多個(gè)待撈渣點(diǎn)依次連線,并將首尾待撈渣點(diǎn)分別與所述原點(diǎn)連線,獲得所述撈渣路徑。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在獲得撈渣路徑之后,還包括:
在獲得多條撈渣路徑時(shí),分別獲取每條撈渣路徑的長(zhǎng)度值;
基于所述每條撈渣路徑的長(zhǎng)度值,確定最短的撈渣路徑為最優(yōu)撈渣路徑;
基于所述最優(yōu)撈渣路徑進(jìn)行撈渣。
6.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述通過(guò)攝像頭對(duì)預(yù)設(shè)撈渣區(qū)域進(jìn)行圖像采集,獲得撈渣區(qū)域圖,包括:
通過(guò)攝像頭對(duì)鋅鍋內(nèi)在以所述爐鼻子作為邊緣的2/3部位區(qū)域進(jìn)行圖像采集,獲得所述撈渣區(qū)域圖。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于武漢鋼鐵有限公司,未經(jīng)武漢鋼鐵有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010528048.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過(guò)量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 光源裝置、照明裝置、液晶裝置和電子裝置
- 預(yù)測(cè)裝置、編輯裝置、逆預(yù)測(cè)裝置、解碼裝置及運(yùn)算裝置
- 圖像形成裝置、定影裝置、遮光裝置以及保持裝置
- 打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置以及打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置的控制方法
- 電子裝置、光盤(pán)裝置、顯示裝置和攝像裝置
- 光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法
- 用戶(hù)裝置、裝置對(duì)裝置用戶(hù)裝置、后端裝置及其定位方法
- 遙控裝置、通信裝置、可變裝置及照明裝置
- 透鏡裝置、攝像裝置、處理裝置和相機(jī)裝置
- 抖動(dòng)校正裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、成像裝置、和電子裝置





