[發(fā)明專利]陣列基板、液晶顯示面板及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010521961.2 | 申請日: | 2020-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN111596495B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊志;張驥;王喜鵬;徐超;郭坤;程石;劉信;謝斌;李彥輝;盛子沫 | 申請(專利權)人: | 武漢京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權代理有限公司 11291 | 代理人: | 劉紅彬 |
| 地址: | 430040 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 液晶顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及顯示面板技術領域,公開了一種陣列基板、液晶顯示面板及其制備方法,該陣列基板包括襯底、半導體層、第一金屬層以及光致變色層,光致變色層位于襯底和半導體層之間;第一金屬層位于半導體層背離襯底的一側;光致變色層包括受可見光照射時顏色變深的有效區(qū)以及透明的無效區(qū),第一金屬層和半導體層在襯底的正投影均被有效區(qū)在襯底的正投影覆蓋。當可見光沿襯底向第一金屬層的方向照射陣列基板時,有效區(qū)顏色會加深,可見光僅會透過有效區(qū)之外部分的透明的無效區(qū),而不會照射到半導體層,減少了半導體層因光照的影響而具有導體性質(zhì)的現(xiàn)象的發(fā)生,減少背光光照區(qū)域和無背光光照區(qū)域之間存在的像素充電差異,改善了畫面顯示不均的現(xiàn)象。
技術領域
本發(fā)明涉及顯示面板的技術領域,尤其是涉及一種陣列基板、液晶顯示面板及其制備方法。
背景技術
隨著科技的進步和社會的發(fā)展,顯示面板在人們的生活中逐漸普及,因此,人們對顯示面板的性能要求也越來越高。
隨著面板尺寸增加,背光尺寸也相應變化,隨之而來的是背光功耗的急劇升高,因此背光廠商采取PWM調(diào)制方法來降低功耗。
但是,面板尺寸在增加的同時,數(shù)據(jù)線信號的長度也會增加,帶來了數(shù)據(jù)線阻抗的升高,同時現(xiàn)有主流大尺寸電視面板均采用4Mask工藝,因而數(shù)據(jù)線下會存在有等寬度的半導體層,常用非晶硅半導體層,這樣在背光開啟的時候,非晶硅半導體將具有導體的特性,進而造成有背光光照區(qū)和無背光光照區(qū)之間存在線電阻差異以及與像素區(qū)電極之間的電容耦合變化,造成背光光照區(qū)域和無背光光照區(qū)域之間存在像素充電差異,從而畫面顯示不均。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種陣列基板,上述陣列基板能夠有效減少背光光照區(qū)域和無背光光照區(qū)域之間存在像素充電差異,從而改善了顯示畫面顯示不均的現(xiàn)象,提高了顯示效果。
為達到上述目的,本發(fā)明提供以下技術方案:
一種陣列基板,包括襯底、半導體層、第一金屬層以及光致變色層,其中:光致變色層位于襯底和半導體層之間;第一金屬層位于半導體層背離襯底的一側;光致變色層包括受可見光照射時顏色變深的有效區(qū)以及位于有效區(qū)之外部分的透明的無效區(qū),第一金屬層和半導體層在襯底的正投影均被有效區(qū)在襯底的正投影覆蓋。
本發(fā)明提供的陣列基板,當可見光沿襯底向第一金屬層的方向照射陣列基板時,有效區(qū)顏色會加深,可見光僅會透過有效區(qū)之外部分的透明的無效區(qū),而不會透過深色的有效區(qū),由于第一金屬層和半導體層在襯底的正投影均被有效區(qū)在襯底的正投影覆蓋,也就是說可見光不會照射到半導體層。
因此,這種陣列基板的設置方式,當背光開啟的時候,有效區(qū)的存在能夠有效減少甚至防止可見光照射到半導體層,大大減少了半導體層因光照的影響而具有導體性質(zhì)的現(xiàn)象的發(fā)生,從而有效減少了有背光光照區(qū)和無背光光照區(qū)之間的線電阻差異,減少了有背光光照區(qū)域和無背光光照區(qū)域之間存在的像素充電差異,從而改善了顯示畫面顯示不均的現(xiàn)象,提升了顯示效果。
可選地,陣列基板還包括絕緣層以及第二金屬層;絕緣層位于第一金屬層與第二金屬層之間;第二金屬層在襯底的正投影被有效區(qū)在襯底的正投影覆蓋。
可選地,第二金屬層位于半導體層與光致變色層之間。
一種液晶顯示面板,包括彩膜層以及上述的任一種陣列基板,其中:彩膜層位于第一金屬層遠離襯底的一側;彩膜層與第一金屬層之間具有遮光層,第一金屬層和半導體層在襯底的正投影均被遮光層在襯底的正投影覆蓋。
可選地,遮光層為黑矩陣。
一種適用于上述的任一種液晶顯示面板的制備方法,包括:在襯底上依次形成光致變色層、半導體層以及第一金屬層,以形成陣列基板;在陣列基板上形成彩膜層,以形成液晶顯示面板;沿彩膜層向襯底的方向,用特定波長的紫外光過渡照液晶顯示面板,直到光致變色層的有效區(qū)以外的部分失去光致變效應,以形成透明的無效區(qū)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





