[發明專利]陣列基板、液晶顯示面板及其制備方法有效
| 申請號： | 202010521961.2 | 申請日： | 2020-06-10 |
| 公開（公告）號： | CN111596495B | 公開（公告）日： | 2023-04-14 |
| 發明（設計）人： | 楊志;張驥;王喜鵬;徐超;郭坤;程石;劉信;謝斌;李彥輝;盛子沫 | 申請（專利權）人： | 武漢京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1362 | 分類號： | G02F1/1362;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 劉紅彬 |
| 地址： | 430040 湖北省*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陣列 液晶顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
1.一種陣列基板，其特征在于，包括襯底、半導體層、第一金屬層以及光致變色層，其中：
所述光致變色層位于所述襯底和所述半導體層之間；
所述第一金屬層位于所述半導體層背離所述襯底的一側；
所述光致變色層包括受可見光照射時顏色能夠變深的有效區以及位于所述有效區之外部分的透明的無效區，所述第一金屬層和所述半導體層在所述襯底的正投影均被所述有效區在所述襯底的正投影覆蓋。
2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括絕緣層以及第二金屬層；
所述絕緣層位于所述第一金屬層與所述第二金屬層之間；
所述第二金屬層在所述襯底的正投影被所述有效區在所述襯底的正投影覆蓋。
3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第二金屬層位于所述半導體層與所述光致變色層之間。
4.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括彩膜層以及權利要求1-3任一項所述的陣列基板，其中：
所述彩膜層位于所述第一金屬層遠離所述襯底的一側；
所述彩膜層與所述第一金屬層之間具有遮光層，所述第一金屬層和所述半導體層在所述襯底的正投影均被所述遮光層在所述襯底的正投影覆蓋。
5.根據權利要求4所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述遮光層為黑矩陣。
6.一種適用于權利要求4-5任一項所述的液晶顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：
在襯底上依次形成光致變色層、半導體層以及第一金屬層，以形成陣列基板；
在陣列基板上形成彩膜層，以形成液晶顯示面板；
沿彩膜層向襯底的方向，用特定波長的紫外光過渡照液晶顯示面板，直到光致變色層的有效區以外的部分失去光致變效應，以形成透明的無效區。
7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述光致變色層為無色透明膜層；
所述無效區的形成方法為：
在沿第二金屬層向襯底的方向，用特定波長的紫外光過渡照液晶顯示面板，直到光致變色層的有效區以外的部分逐漸退化至失去光致變特性。
8.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述光致變色層為深色膜層；
所述無效區的形成方法為：
在沿第二金屬層向襯底的方向，用特定波長的紫外光過渡照液晶顯示面板時，直到光致變色層的有效區以外的部分逐漸褪色至透明、且失去光致變特性。
9.根據權利要求6-8任一項所述的制備方法，其特征在于，所述光致變色層選用無機可見光致變色材料制作。
10.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述光致變色層包括過渡金屬氧化物和/或稀土配合物。
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