[發(fā)明專利]一種保護(hù)涂層及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010519596.1
• 申請(qǐng)日: 2020-06-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111675966B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宗堅(jiān)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C09D183/04
• 分類號(hào): C09D183/04;C09D133/02;C08F120/06;C09D133/16;C08F120/24;C23C16/513
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 葉子濃

本發(fā)明的具體實(shí)施方式提供一種保護(hù)涂層，所述保護(hù)涂層為含有硅結(jié)構(gòu)單元、以及仲胺結(jié)構(gòu)單元或伯胺結(jié)構(gòu)單元的單體A與包含羧端基結(jié)構(gòu)的單體B在基材表面等離子聚合形成的第一涂層，該保護(hù)涂層與基材結(jié)合緊密，具有優(yōu)異的耐磨性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于等離子化學(xué)領(lǐng)域，具體涉及一種等離子體聚合保護(hù)涂層及其制備方法。

背景技術(shù)

有機(jī)聚合物涂層可以有效的對(duì)不同材料表面進(jìn)行保護(hù)，例如，電子電氣元器件、金屬等在水氣、液體的侵蝕下極易造成腐蝕、短路等現(xiàn)象，聚合物防護(hù)涂層可以阻擋液體的侵蝕，從而提高電子產(chǎn)品、金屬產(chǎn)品等在潮濕或者水下的穩(wěn)定性和可靠性。目前，氣相沉積法在基材表面制備聚合物防護(hù)涂層是主流方法，該方法經(jīng)濟(jì)適用、易于操作等特點(diǎn)，尤其是等離子體化學(xué)氣相沉積，利用等離子體活化反應(yīng)單體氣體并在基材表面進(jìn)行沉積，這種方法適用于各種基材，且沉積的聚合物防護(hù)涂層均勻，涂層制備溫度低，涂層厚度薄、應(yīng)力小，對(duì)基材表面幾乎沒(méi)有損傷和基材性能幾乎沒(méi)有影響。在等離子體制備聚合物防護(hù)涂層中，通常以氟代化合物為單體在基材表面制備獲得氟碳樹(shù)脂防護(hù)涂層，對(duì)于該氟碳樹(shù)脂防護(hù)涂層，存在與基材結(jié)合力差的問(wèn)題，當(dāng)防護(hù)涂層表面受到外力的摩擦作用時(shí)，易于磨損、從而失去保護(hù)的作用，因此，如何提高防護(hù)涂層與基材之間的結(jié)合力，使防護(hù)涂層緊固的附著在基材表面，提高防護(hù)涂層的耐磨性，是防護(hù)涂層優(yōu)化改進(jìn)的重要方向之一。

發(fā)明內(nèi)容

為解決防護(hù)涂層與基材之間結(jié)合力差、耐磨性不好的問(wèn)題，本發(fā)明的具體實(shí)施方式提供一種保護(hù)涂層及其制備方法，具體方案如下：

一種保護(hù)涂層，所述保護(hù)涂層為基材接觸包含單體A和單體B的等離子體，從而在所述基材的表面等離子體聚合形成的第一涂層，其中，單體A同時(shí)包含式(Ⅰ)的結(jié)構(gòu)單元，以及式(Ⅱ)或式(Ⅲ)結(jié)構(gòu)單元中的至少一個(gè)，單體B包含羧端基結(jié)構(gòu)單元

可選的，所述單體A的結(jié)構(gòu)如式(Ⅳ)所示，

其中，X為連接鍵、氧原子或羰基，R₁為C₁-C₁₀的亞烴基或C₁-C₁₀的鹵原子取代亞烴基，R₂、R₃和R₄分別獨(dú)立的選自于氫原子、鹵素原子、C₁-C₁₀的烴基、C₁-C₁₀的鹵原子取代烴基、C₁-C₁₀的烴氧基、C₁-C₁₀的鹵原子取代烴氧基、C₁-C₁₀的烴酰氧基或C₁-C₁₀的鹵原子取代烴酰氧基。

可選的，X為連接鍵，R₁為C₁-C₁₀的亞烷基，R₂、R₃和R₄分別獨(dú)立的為C₁-C₁₀的烴氧基。

可選的，R₁為亞乙基、亞丙基或亞丁基，R₂、R₃和R₄分別獨(dú)立的為甲氧基、乙氧基或丙氧基。

可選的，所述單體B的結(jié)構(gòu)如式(Ⅴ)所示，

其中，R₅、R₆和R₇分別獨(dú)立的選自于氫原子、鹵素原子、C₁-C₁₀的烴基或C₁-C₁₀的鹵原子取代烴基，Y為連接鍵、C₁-C₁₀的亞烴基或C₁-C₁₀的鹵原子取代亞烴基。