[發(fā)明專利]一種保護(hù)涂層及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010519596.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111675966B | 公開(公告)日: | 2022-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宗堅(jiān) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09D183/04 | 分類號(hào): | C09D183/04;C09D133/02;C08F120/06;C09D133/16;C08F120/24;C23C16/513 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 保護(hù) 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種保護(hù)涂層,其特征在于,所述保護(hù)涂層為將基材接觸包含單體A和單體B的等離子體,從而在所述基材的表面等離子體聚合形成的第一涂層,其中,單體A同時(shí)包含式(Ⅰ)的硅結(jié)構(gòu)單元,以及式(Ⅱ)或式(Ⅲ)的胺基結(jié)構(gòu)單元中的至少一個(gè),單體B包含羧端基結(jié)構(gòu)單元;
-NH- (Ⅱ) -NH2 (III)
所述單體B的結(jié)構(gòu)如式(Ⅴ)所示,
其中,R5、R6和R7分別獨(dú)立的選自于氫原子、鹵素原子、C1-C10的烴基或C1-C10的鹵原子取代烴基,Y為連接鍵、C1-C10的亞烴基或C1-C10的鹵原子取代亞烴基;
所述保護(hù)涂層還包括:位于第一涂層上的第二涂層,所述第二涂層包括一層或多層的等離子體聚合涂層,所述第二涂層的各層單體分別獨(dú)立的選自于氟代烴、氟代丙烯酸酯或氟代硅烷中的一種或多種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)涂層,其特征在于,所述單體A的結(jié)構(gòu)如式(Ⅳ)所示,
其中,X為連接鍵、氧原子或羰基,R1為C1-C10的亞烴基或C1-C10的鹵原子取代亞烴基,R2、R3和R4分別獨(dú)立的選自于氫原子、鹵素原子、C1-C10的烴基、C1-C10的鹵原子取代烴基、C1-C10的烴氧基、C1-C10的鹵原子取代烴氧基、C1-C10的烴酰氧基或C1-C10的鹵原子取代烴酰氧基。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的保護(hù)涂層,其特征在于,X為連接鍵,R1為C1-C10的亞烷基,R2、R3和R4分別獨(dú)立的為C1-C10的烴氧基。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的保護(hù)涂層,其特征在于,R1為亞乙基、亞丙基或亞丁基,R2、R3和R4分別獨(dú)立的為甲氧基、乙氧基或丙氧基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)涂層,其特征在于,所述R5、R6和R7分別獨(dú)立的選自于氫原子或甲基,Y為連接鍵。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的保護(hù)涂層,其特征在于,所述R5和R6為氫原子,R7為氫原子或甲基。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)涂層,其特征在于,所述基材為電子或電氣元器件、金屬。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)涂層,其特征在于,以胺基結(jié)構(gòu)單元計(jì)的單體A與以羧端基結(jié)構(gòu)單元計(jì)的單體B的摩爾比為10:0.1~10:10之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)涂層,其特征在于,以胺基結(jié)構(gòu)單元計(jì)的單體A與以羧端基結(jié)構(gòu)單元計(jì)的單體B的摩爾比為10:0.5~10:5之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保護(hù)涂層,所述第二涂層包括兩層以上等離子體聚合涂層,其中,外層等離子體聚合涂層的單體的氟原子含量高于內(nèi)層等離子體聚合涂層的單體的氟原子含量。
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C09D 涂料組合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充漿料;化學(xué)涂料或油墨的去除劑;油墨;改正液;木材著色劑;用于著色或印刷的漿料或固體;原料為此的應(yīng)用
C09D183-00 基于由只在主鏈中形成含硅的、有或沒有硫、氮、氧或碳鍵反應(yīng)得到的高分子化合物的涂料組合物;基于此種聚合物衍生物的涂料組合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷鏈區(qū)的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少兩個(gè),但不是所有的硅原子與氧以外的原子連接
C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





