[發明專利]一類含羥肟酸基團的二芳基乙烯類LSD1/HDACs雙靶點抑制劑、其制備方法及應用有效
| 申請號： | 202010516850.2 | 申請日： | 2020-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN111592487B | 公開（公告）日： | 2022-07-19 |
| 發明（設計）人： | 段迎超;靳林峰;關圓圓;袁航;文郁康;陳書慧;秦文平;張少杰 | 申請（專利權）人： | 新鄉醫學院 |
| 主分類號： | C07D213/61 | 分類號： | C07D213/61;C07D213/55;C07D213/56;C07C69/84;C07C259/10;C07C67/343;A61P35/00 |
| 代理公司： | 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 楊海霞 |
| 地址： | 453003 *** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一類 含羥肟酸 基團 二芳基 乙烯 lsd1 hdacs 雙靶點 抑制劑 制備 方法 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一類含有羥肟酸基團的二芳基乙烯類化合物，其特征在于，選以下化合物其中之一:
2.如權利要求1所述的一類含有羥肟酸基團的二芳基乙烯類化合物在藥物制備中的應用，其特征在于，將其作為活性成分用于LSD1/HDAC雙靶點抑制劑類藥物的制備。
3.如權利要求2所述的一類含有羥肟酸基團的二芳基乙烯類化合物在藥物制備中的應用，其特征在于，將其作為活性成分用于制備抗結腸癌，肺癌，胃癌藥物。
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