[發明專利]一種X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法

在審

• 申請號: 202010512124.3
• 申請日: 2020-06-08
• 公開（公告）號: CN111650231A
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發明（設計）人: 殷宏;太井超;閆學會;周垣;田子達
• 申請（專利權）人: 天津鋼鐵集團有限公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223;G01N23/2202
• 代理公司: 天津市鼎和專利商標代理有限公司 12101
• 代理人: 張倩

1.一種X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)用化學法對標準樣品進行定值，用壓片法將各個有化學法定值的標準樣品分別制成可供X射線熒光光譜儀分析的標準樣片，并用化學法值作為標準值建立標準曲線；

2)用X射線熒光光譜儀對上述標準樣片中的一個或幾個分別進行掃描，建立基礎分析條件；

3)標準曲線范圍中各元素含量Si為11.08-18.73％，Mn為0.12-0.42％，P為0.22-0.96％，對各個有化學法定值的標準樣片按照基礎分析條件用X射線熒光光譜儀分別進行測量，根據經驗系數法對標準曲線中的元素進行添加修正，進行擬合后，重新生成標準曲線；

4)用壓片法將待測樣品制成可供X射線熒光光譜儀分析的待測樣片；

5)待測樣片分析：再用X射線熒光光譜儀對待測樣片進行X射線熒光光譜分析。

2.根據權利要求1所述的X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法，其特征在于，所述標準樣片和待測樣片的制作方法是：將標準樣品或待測樣品經破碎、縮分、研磨后，充分混合均勻，標準樣品或待測樣品粒度達到150目以上；將標準樣品或待測樣品稱取5g-7g左右放置在UPHS型超高壓壓片機模具杯內，模具采用聚乙烯材質制成，放樣后小心將標準樣品或待測樣品鋪平，放置在壓片機成型壓力模具內；設定好壓力參數后，進行壓片操作；將制得的標準樣片或待測樣片置于密封保存袋中待測。

3.根據權利要求2所述的X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法，其特征在于，所述壓力設定為160噸-200噸，保壓時間為10秒。

4.根據權利要求3所述的X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法，其特征在于，進行壓片操作時分四段進行升壓操作，具體為：第一段壓力為30-40噸，保壓10秒；繼續升壓到第二段壓力為70-80噸，保壓10秒；繼續升壓到第三段壓力為130-150噸，保壓10秒；升壓到設定壓力160噸-200噸，再保壓10秒。