[發明專利]液處理裝置和液處理方法

在審

• 申請號: 202010500958.2
• 申請日: 2020-06-04
• 公開（公告）號: CN112071771A
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 梶原英樹;米光祐彌;山中晉一郎;水篠真一;飯田成昭;川上浩平;東徹
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/027
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種液處理裝置，其特征在于，

該液處理裝置具備：

多個基板保持部，其分別保持基板；

第1噴嘴，其為了在保持于各所述基板保持部的基板之上的第1噴出位置向該基板噴出第1處理液而以各所述基板保持部為單位設置；

第2噴嘴，其相對于所述第1噴嘴獨立地移動，在保持于各所述基板保持部的基板之上的第2噴出位置以遲于所述第1處理液的噴出的方式向該基板噴出涂敷膜形成用的第2處理液，該第2噴嘴被所述多個基板保持部共用；

第3噴嘴，其相對于所述第1噴嘴以及所述第2噴嘴獨立地移動，為了在保持于各所述基板保持部的基板之上的第3噴出位置于未向所述基板進行所述第1處理液和所述第2處理液的供給時向所述基板噴出第3處理液而以各所述基板保持部為單位設置；

第1待機部、第2待機部和第3待機部，其使所述第1噴嘴、所述第2噴嘴、所述第3噴嘴分別于俯視時在所述基板由各基板保持部保持的保持區域的外側待機；

回轉機構，其使所述第1噴嘴于俯視時在所述第1待機部與所述第1噴出位置之間回轉；以及

直動機構，其使所述第3噴嘴于俯視時在所述第3待機部與所述第3噴出位置之間直線移動。

2.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

自所述第1噴嘴對所述基板供給稀釋劑作為第1處理液，自所述第2噴嘴對所述基板供給在所述基板上形成膜的處理液作為所述第2處理液。

3.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

所述第3噴嘴向所述基板的周緣部供給所述第3處理液。

4.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

除了所述第1噴出位置和所述第2噴出位置設為在俯視時相互重疊的通用噴出位置的情況的該通用噴出位置之外，所述第1待機部與第1噴出位置之間的所述第1噴嘴在俯視時的第1移動軌跡、所述第2待機部與第2噴出位置之間的所述第2噴嘴在俯視時的第2移動軌跡、以及所述第3待機部與第3噴出位置之間的所述第3噴嘴在俯視時的第3移動軌跡互不重疊。

5.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

該液處理裝置具備：

照明，其與所述第2噴嘴一起移動，向該第2噴嘴照射光；以及

拍攝部，其與所述第2噴嘴一起移動，拍攝由所述照明照射了光的該第2噴嘴。

6.根據權利要求5所述的液處理裝置，其特征在于，

所述照明以從互不相同的方向向所述第2噴嘴照射光的方式設置有多個。

7.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

從所述第1噴嘴向所述基板噴出所述第1處理液的期間比從所述第2噴嘴向該基板噴出所述第2處理液的期間長。

8.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

將保持于一個所述基板保持部的所述基板設為第1基板，將保持于另一所述基板保持部的所述基板設為第2基板，

將從所述第1噴嘴自所述第1待機部開始移動的時刻到所述第2噴嘴結束第2處理液的噴出的時刻設為連續處理，

該液處理裝置設置有控制部，該控制部輸出控制信號，以使對所述第1基板進行所述連續處理的期間與對所述第2基板進行所述連續處理的期間重疊。

9.根據權利要求8所述的液處理裝置，其特征在于，

所述控制部在對所述第1基板進行的所述連續處理的執行過程中根據該連續處理結束的時刻決定開始對所述第2基板進行所述連續處理的時刻。

10.根據權利要求9所述的液處理裝置，其特征在于，

所述控制部將所述第2基板處的從所述第1處理液的噴出結束到噴出所述第2處理液的間隔調整到所預先設定的范圍內。

11.根據權利要求1所述的液處理裝置，其特征在于，

在從所述第1噴嘴向所述基板噴出所述第1處理液的過程中，所述第2噴嘴在該基板之上待機。