[發明專利]一種掩膜板整形裝置及掩膜板整形方法、光刻機

在審

• 申請號: 202010479847.8
• 申請日: 2020-05-29
• 公開（公告）號: CN113741151A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 程國苗;馮光磊;申楠楠;董浩;李新振;胡玉龍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明公開了一種掩膜板整形裝置及掩膜板整形方法、光刻機。所述掩膜板整形裝置包括：透明蓋板、支撐固定框、承板臺、真空吸附氣動系統、恒壓氣動控制系統以及可控抽真空系統；其中，透明蓋板與支撐固定框連接，且覆蓋支撐固定框的中空區域；透明蓋板和支撐固定框與待整形掩膜板構成密閉腔；承板臺用于承載待整形掩膜板的邊框區，并吸附固定支撐固定框；真空吸附氣動系統用于為承板臺提供吸附力；恒壓氣動控制系統用于維持密閉腔內的氣壓恒定；可控抽真空系統用于實現密閉腔內流量可控的抽真空。本發明實施例提供的技術方案，避免真空過抽現象發生的同時，保證了密閉腔能夠以較短的時間建立目標真空，進而實現了對待整形掩膜板的有效整形。

技術領域

本發明實施例涉及光刻機技術領域，尤其涉及一種掩膜板整形裝置及掩膜板整形方法、光刻機。

背景技術

掩膜板是光刻機的重要組成部分，其特性對光刻效果的影響顯著。

隨著光刻技術的不斷發展，光刻機的光刻范圍增大，掩膜板的尺寸相應增大。受自身重力影響，大尺寸掩膜板會發生垂向形變，且最大形變量可達65μm以上，而光刻機中的拼接物鏡的可調范圍只有+/-15um，無法通過調節拼接物鏡的方式補償掩膜板的形變，此外，現有光刻機的焦深約為7.5μm，掩膜板的自重形變遠超焦深，導致成像質量難以保證。

發明內容

本發明提供一種掩膜板整形裝置及掩膜板整形方法、光刻機，以有效整形掩膜板受自重影響產生的形變。

第一方面，本發明實施例提供了一種掩膜板整形裝置，包括：

透明蓋板、支撐固定框、承板臺、真空吸附氣動系統、恒壓氣動控制系統以及可控抽真空系統；

其中，所述透明蓋板與所述支撐固定框連接，且覆蓋所述支撐固定框的中空區域；所述透明蓋板和所述支撐固定框與待整形掩膜板構成密閉腔；

所述承板臺用于承載所述待整形掩膜板的邊框區，并吸附固定所述支撐固定框；

所述真空吸附氣動系統用于為所述承板臺提供吸附力；

所述恒壓氣動控制系統用于維持所述密閉腔內的氣壓恒定；

所述可控抽真空系統用于實現所述密閉腔內流量可控的抽真空。

第二方面，本發明實施例還提供了一種光刻機，包括上述第一方面所述的掩膜板整形裝置。

第二方面，本發明實施例還提供了一種掩膜板整形方法，采用上述第一方面所述的掩膜板整形裝置實施，包括：

將待整形掩膜板的邊框放置于所述承板臺上；

將連接后的所述透明蓋板以及所述支撐固定框放置于所述承板臺上，以形成所述密閉腔；

控制所述真空吸附氣動系統為所述承板臺提供吸附力，以吸附固定所述支撐固定框以及所述待整形掩膜板；

控制所述可控抽真空系統以最大流量對所述密閉腔抽真空，直至所述密閉腔內的負壓達到閾值，其中，所述閾值與所述密閉腔的目標真空之差小于預設差值；

減小所述可控抽真空系統的流量，控制所述可控抽真空系統以減小后的流量對所述密閉腔抽真空，直至所述密閉腔內的負壓達到所述目標真空；

控制所述恒壓氣動控制系統維持所述密閉腔的氣壓恒定。

本發明實施例提供的技術方案，通過設置透明蓋板和支撐固定框與待整形掩膜板構成密閉腔，可控抽真空系統對密閉腔進行流量可控的抽真空，使得可控抽真空系統能夠在初始階段采用最大流量對密閉腔抽真空，并在密閉腔內接近目標真空時，以減小后較小的流量繼續對密閉腔抽真空，避免真空過抽現象發生的同時，保證了密閉腔能夠以較短的時間建立目標真空，進而實現了對待整形掩膜板的有效整形。

附圖說明