[發(fā)明專利]一種掩膜板整形裝置及掩膜板整形方法、光刻機(jī)

在審

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• 申請日: 2020-05-29
• 公開（公告）號: CN113741151A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程國苗;馮光磊;申楠楠;董浩;李新振;胡玉龍
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種掩膜板整形裝置，其特征在于，包括：

透明蓋板、支撐固定框、承板臺、真空吸附氣動系統(tǒng)、恒壓氣動控制系統(tǒng)以及可控抽真空系統(tǒng)；

其中，所述透明蓋板與所述支撐固定框連接，且覆蓋所述支撐固定框的中空區(qū)域；所述透明蓋板和所述支撐固定框與待整形掩膜板構(gòu)成密閉腔；

所述承板臺用于承載所述待整形掩膜板的邊框區(qū)，并吸附固定所述支撐固定框；

所述真空吸附氣動系統(tǒng)用于為所述承板臺提供吸附力；

所述恒壓氣動控制系統(tǒng)用于維持所述密閉腔內(nèi)的氣壓恒定；

所述可控抽真空系統(tǒng)用于實(shí)現(xiàn)所述密閉腔內(nèi)流量可控的抽真空。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述可控抽真空系統(tǒng)包括真空傳感器、電磁閥以及干燥真空氣源；沿所述密閉腔的抽真空氣流方向，所述真空傳感器、所述電磁閥以及所述干燥真空氣源依次設(shè)置于所述密閉腔的抽真空管路上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述承板臺包括多個(gè)吸附孔以及與所述吸附孔連通的吸附腔，所述吸附孔設(shè)置于所述承板臺與所述待整形掩膜板以及所述支撐固定框的接觸面上，所述真空吸附氣動系統(tǒng)用于對所述吸附腔抽真空。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述透明蓋板與所述支撐固定框通過貼合膠固定連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述支撐固定框與所述待整形掩膜板接觸的表面上設(shè)置有密封槽，所述密封槽內(nèi)設(shè)置密封圈。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述密封槽垂直于所述透明蓋板的截面為梯形，所述梯形包括平行設(shè)置的第一底邊和第二底邊，所述第一底邊的長度為A，所述第二底邊的長度為B，A＞B；所述第二底邊位于所述第一底邊遠(yuǎn)離所述透明蓋板的一側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述支撐固定框垂直于所述透明蓋板的截面為L型，所述L型包括相互垂直的第一邊和第二邊，所述第一邊與所述透明蓋板的邊緣連接，所述第二邊遠(yuǎn)離所述第一邊的端面與所述承板臺吸附連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述承板臺包括多個(gè)分立設(shè)置的子承板臺；

所述支撐固定框架的外邊緣的形狀為矩形，所述矩形的每個(gè)邊均與至少一個(gè)所述子承板臺固定連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，還包括多個(gè)激光檢測傳感器，所述激光檢測傳感器設(shè)置于所述待整形掩膜板的圖形區(qū)遠(yuǎn)離所述透明蓋板的一側(cè)；

多個(gè)所述激光檢測傳感器用于檢測所述待整形掩膜板的面型。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板整形裝置，其特征在于，所述支撐固定框的材料為合金。

11.一種光刻機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的掩膜板整形裝置。

12.一種掩膜板整形方法，采用權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的掩膜板整形裝置實(shí)施，其特征在于，包括：

將待整形掩膜板的邊框放置于所述承板臺上；

將連接后的所述透明蓋板以及所述支撐固定框放置于所述承板臺上，以形成所述密閉腔；

控制所述真空吸附氣動系統(tǒng)為所述承板臺提供吸附力，以吸附固定所述支撐固定框以及所述待整形掩膜板；

控制所述可控抽真空系統(tǒng)以最大流量對所述密閉腔抽真空，直至所述密閉腔內(nèi)的負(fù)壓達(dá)到閾值，其中，所述閾值與所述密閉腔的目標(biāo)真空之差小于預(yù)設(shè)差值；

減小所述可控抽真空系統(tǒng)的流量，控制所述可控抽真空系統(tǒng)以減小后的流量對所述密閉腔抽真空，直至所述密閉腔內(nèi)的負(fù)壓達(dá)到所述目標(biāo)真空；

控制所述恒壓氣動控制系統(tǒng)維持所述密閉腔的氣壓恒定。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的掩膜板整形方法，其特征在于，還包括多個(gè)激光檢測傳感器，所述激光檢測傳感器設(shè)置于所述待整形掩膜板的掩膜區(qū)遠(yuǎn)離所述透明蓋板的一側(cè)；所述激光檢測傳感器用于檢測待整形掩膜板的面型；

控制所述恒壓氣動控制系統(tǒng)維持所述密閉腔的氣壓恒定后，還包括：

控制所述承板臺沿任一方向移動，同時(shí)采用多個(gè)所述激光檢測傳感器對所述待整形掩膜板的面型進(jìn)行檢測；

根據(jù)檢測到的所述面型獲取所述待整形掩膜板的最大形變量。