[發(fā)明專利]一種蒸鍍坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010478086.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111424240B | 公開(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張雪峰;陳聞凱;趙景訓(xùn);黃永振;陳雷行;張紅信;衛(wèi)勇勇;王曉強(qiáng);賈凱;滕鑫;賀斌露 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京布瑞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11505 | 代理人: | 李浩 |
| 地址: | 065500 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 坩堝 | ||
1.一種蒸鍍坩堝,其特征在于,包括:
坩堝本體;以及
設(shè)置在所述坩堝本體的坩堝槽內(nèi)的至少一個(gè)緩沖板,至少一個(gè)所述緩沖板沿所述坩堝本體寬度方向放置,其中所述緩沖板包括擋片和與所述擋片表面連接的至少一個(gè)彈簧,至少一個(gè)所述彈簧可以沿所述坩堝本體長(zhǎng)度方向被拉伸或壓縮,所述擋片上開設(shè)有多個(gè)第一穿孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,所述坩堝本體包括1~20個(gè)所述坩堝槽,其中每個(gè)所述坩堝槽內(nèi)放置1~10個(gè)所述緩沖板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,1~10個(gè)所述緩沖板沿所述坩堝本體寬度方向放置,其中1~10個(gè)所述緩沖板沿所述坩堝本體長(zhǎng)度方向?qū)⑺鲔釄宀鄣膬?nèi)部空間對(duì)應(yīng)分割成2~11個(gè)均等的空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,所述均等的空間內(nèi)分別設(shè)置有至少一個(gè)所述彈簧,其中至少一個(gè)所述彈簧可以沿所述坩堝本體長(zhǎng)度方向被拉伸或壓縮。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,所述彈簧的長(zhǎng)度小于等于所述空間的長(zhǎng)度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,進(jìn)一步包括坩堝蓋帽,蓋在所述坩堝本體的上方;以及
多個(gè)坩堝噴嘴,貫穿設(shè)置在所述坩堝蓋帽上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,所述坩堝噴嘴在所述坩堝蓋帽遠(yuǎn)離所述坩堝本體一側(cè)的長(zhǎng)度為2~15mm;
所述坩堝噴嘴在所述坩堝蓋帽靠近所述坩堝本體一側(cè)的長(zhǎng)度為5~20mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,所述坩堝蓋帽進(jìn)一步包括:中板,設(shè)置在所述坩堝噴嘴靠近所述坩堝的一側(cè),其中所述中板上設(shè)置多個(gè)第二穿孔,多個(gè)所述第二穿孔和多個(gè)所述坩堝噴嘴分別對(duì)應(yīng)設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍坩堝,其特征在于,所述中板的材質(zhì)為以下材質(zhì)中的一種或多種:鈦合金、鉭合金和陶瓷。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





