[發(fā)明專利]有機(jī)樹脂膜的去除方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010475494.4
• 申請(qǐng)日: 2020-05-29
• 公開（公告）號(hào): CN112015059A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岡本和之;西村淳;市川雅士
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 夏普株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/42
• 分類號(hào): G03F7/42
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334
• 代理人: 郝家歡

本發(fā)明提供一種有機(jī)樹脂膜的去除方法，其包含：光照射工序[4?1]，其向在構(gòu)造物(40)上被賦予的有機(jī)樹脂膜(50)，照射特定波長(zhǎng)區(qū)域的照射光IL；抗蝕劑剝離工序(剝離工序的一個(gè)例子)[4?2]，其在所述光照射工序[4?1]后，從構(gòu)造物(40)上剝離抗蝕劑膜(50)，通過有機(jī)樹脂膜的去除方法去除。

技術(shù)區(qū)域

由本說(shuō)明書公開的技術(shù)涉及一種有機(jī)樹脂膜的去除方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法。

背景技術(shù)

作為半導(dǎo)體的一個(gè)例子，已知包含：包含半導(dǎo)體膜、金屬膜等的導(dǎo)電膜TFT(ThinFilm Transistor、薄膜晶體管)的開關(guān)元件被設(shè)置的陣列基板(TFT基板、薄膜晶體管基板)為公眾所知。陣列基板構(gòu)成例如液晶面板等顯示面板，通過在玻璃基板上，各種膜等被蝕刻成圖案狀，來(lái)使TFT、電極、柵極配線、源極配線等的各種結(jié)構(gòu)物被設(shè)置。用于圖案形成的抗蝕劑膜，通常由有機(jī)樹脂構(gòu)成，在蝕刻后，通過剝離液清洗處理、氧灰化處理等被剝離去除，但是若抗蝕劑膜未被完整地剝離而殘存，則會(huì)導(dǎo)致各種的不良。因此，例如在以下專利文獻(xiàn)1中提出了，剝離處理之前，通過預(yù)先使得抗蝕劑膜回流變形，來(lái)縮短剝離處理時(shí)間的方法。

現(xiàn)有技術(shù)文件

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：特許3522249號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的技術(shù)問題

在專利文獻(xiàn)1中，通過將基板等的對(duì)象物暴露于藥液氣體中，而使得抗蝕劑膜回流變形，并對(duì)膜厚進(jìn)行薄型化。在這樣的方法中，需要用于將對(duì)象物暴露于藥液氣體中的大規(guī)模處理設(shè)備，需要龐大的初始成本。再加上，在使得藥液滲透于抗蝕劑膜，并進(jìn)行改質(zhì)的方法中，需要藥液成本、為將此滲透而進(jìn)行的氣體化所產(chǎn)生的能量成本、用于廢液處理的成本等，運(yùn)行成本也會(huì)增加。另外，為了去除附著在對(duì)象物上的藥液而進(jìn)行的后工序也需要追加，因此有時(shí)會(huì)導(dǎo)致工序時(shí)間(產(chǎn)距時(shí)間)的延長(zhǎng)。進(jìn)一步，已形成圖案的構(gòu)造物，若是由易受到用于回流變形等藥液影響的材料而形成的情況下，這樣的技術(shù)有不能適用的情形。

本技術(shù)為基于上述情況而完成的，其目的在于，提供一種在抑制成本增加的同時(shí)，可以減少抗蝕劑膜等有機(jī)樹脂膜殘存的有機(jī)樹脂膜的剝離方法。另外，其目的還在于，提供一種在抑制成本增加的同時(shí)，減少不良發(fā)生的半導(dǎo)體裝置的制造方法。

解決問題的手段

(1)本說(shuō)明書公開的技術(shù)的一實(shí)施方式是提供一種有機(jī)樹脂膜的去除方法，其包含光照射工序，向在構(gòu)造物上被賦予的有機(jī)樹脂膜，照射特定波長(zhǎng)區(qū)域的光；剝離工序，在所述光照射工序后，從所述構(gòu)造物剝離所述有機(jī)樹脂膜。

(2)另外，本說(shuō)明書公開的技術(shù)的某實(shí)施方式是提供一種有機(jī)樹脂膜的去除方法，其除了所述(1)的構(gòu)成之外，所述有機(jī)樹脂膜還包含感光劑的感光性樹脂。

(3)另外，本說(shuō)明書公開的技術(shù)的某實(shí)施方式是提供一種有機(jī)樹脂膜的去除方法，其除了所述(1)或(2)的構(gòu)成之外，所述特定波長(zhǎng)區(qū)域的光是紫外區(qū)域的光。

(4)另外，本說(shuō)明書公開的技術(shù)的某實(shí)施方式是提供一種有機(jī)樹脂膜的去除方法，其除了所述(1)至(3)中任一個(gè)構(gòu)成之外，所述特定波長(zhǎng)區(qū)域的光是在其波長(zhǎng)分布中，在多個(gè)波長(zhǎng)區(qū)域包含峰值的光。

(5)另外，本說(shuō)明書公開的技術(shù)的某實(shí)施方式是提供一種有機(jī)樹脂膜的去除方法，其除了所述(1)至(4)中任一個(gè)構(gòu)成之外，所述構(gòu)成物設(shè)置在支撐基材上，所述光照射工序以及所述剝離工序通過連續(xù)搬送所述支撐基材，而能連貫進(jìn)行。

(6)另外，本說(shuō)明書公開的技術(shù)的某實(shí)施方式是提供一種半導(dǎo)體裝置的制造方法，其包含所述(1)至(5)中任一個(gè)所述的有機(jī)樹脂膜的去除方法。

發(fā)明效果