[發明專利]光偏轉器及光掃描裝置在審
| 申請號: | 202010473622.1 | 申請日: | 2020-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN112034614A | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發明(設計)人: | 宮地護 | 申請(專利權)人: | 斯坦雷電氣株式會社 |
| 主分類號: | G02B26/08 | 分類號: | G02B26/08;G02B26/10 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 朱麗娟;崔成哲 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏轉 掃描 裝置 | ||
1.一種光偏轉器,其特征在于,具備:
鏡部,其具有均反射入射光的平坦反射面和槽型反射面;和
第1致動器,其使所述鏡部繞第1旋轉軸進行往復轉動,
所述槽型反射面具有與所述第1旋轉軸平行地延伸設置的多個縱槽,
所述多個縱槽的各縱槽具有與所述第1旋轉軸平行的對置傾斜面,該對置傾斜面帶有V槽的對置傾斜面的至少開口側部分。
2.根據權利要求1所述的光偏轉器,其特征在于,
所述V槽的兩對置傾斜面形成相對于基準底面彼此相等的傾斜角,所述基準底面通過所述V槽的谷線且與所述平坦反射面平行。
3.根據權利要求2所述的光偏轉器,其特征在于,
所述縱槽的對置傾斜面形成為除去所述V槽的底部后的形狀。
4.根據權利要求3所述的光偏轉器,其特征在于,
定義切平面,該切平面在所述V槽的深度方向的中間位置處與所述平坦反射面平行地通過所述V槽,
以所述切平面為界,將所述V槽的所述對置傾斜面分為構成所述V槽的開口側的部分的開口側部分和構成所述V槽的閉口側的部分的閉口側部分,
在所述V槽的橫截面中,將所述開口側部分和所述閉口側部分的長度分別設為Da、Db,
將所述V槽相對于所述基準底面的傾斜角設為β,
所述縱槽的對置傾斜面形成下述形狀:作為相對于所述切平面除去了所述V槽的底部后的形狀,從所述V槽除去了所述閉口側部分,
其中,所述切平面滿足下述條件,
Da∶Db=|tan(2·β)|∶|tan(β)|。
5.根據權利要求3所述的光偏轉器,其特征在于,
所述V槽的兩對置傾斜面相對于所述基準底面的傾斜角之和在80~120°的范圍內。
6.根據權利要求4所述的光偏轉器,其特征在于,
所述鏡部在由硅的晶體層構成的共同的基板層的表面具有所述平坦反射面和所述槽型反射面,
所述晶體層的主面和所述縱槽的對置傾斜面的密勒指數分別為(100)及(111)中的一方的指數以及另一方的指數。
7.根據權利要求2所述的光偏轉器,其特征在于,
各對置傾斜面相對于所述基準底面的傾斜角為54.7°。
8.根據權利要求1所述的光偏轉器,其特征在于,
所述槽型反射面設置在所述第1旋轉軸上。
9.根據權利要求8所述的光偏轉器,其特征在于,
所述槽型反射面設置于所述鏡部的中心部。
10.一種光掃描裝置,其特征在于,具備:
權利要求1所述的光偏轉器;
光源,其生成入射到所述鏡部的入射光;以及
光傳感器,其接收2次反射光,其中,所述入射光在所述鏡部的所述槽型反射面的各縱槽中反射2次之后射出所述2次反射光。
11.根據權利要求10所述的光掃描裝置,其特征在于,
所述光傳感器設置于垂直基準面的兩側,所述垂直基準面是相對于在所述鏡部成為繞所述第1旋轉軸的偏轉寬幅的中心的偏轉角時的所述平坦反射面垂直且通過所述鏡部的中心的基準面。
12.根據權利要求11所述的光掃描裝置,其特征在于,
所述光偏轉器具備第2致動器,該第2致動器使所述鏡部繞與所述第1旋轉軸正交的第2旋轉軸進行往復轉動,
所述光傳感器沿所述鏡部繞所述第2旋轉軸往復轉動時從所述鏡部射出的所述2次反射光所掃描的掃描軌跡延伸設置。
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