[發(fā)明專利]一種高效P型太陽(yáng)能電池及光伏組件在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010469741.X | 申請(qǐng)日: | 2020-05-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111584650A | 公開(公告)日: | 2020-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐘瀟;白玉磐;陳園;付少劍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江西展宇新能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0216 | 分類號(hào): | H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/068 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王雨 |
| 地址: | 334100 江西*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高效 太陽(yáng)能電池 組件 | ||
本發(fā)明公開了一種高效P型太陽(yáng)能電池,包括迎光面外延層、P型基體硅及背光面外延層;所述迎光面外延層包括設(shè)置于所述P型基體硅的表面的非金屬區(qū)的正面鈍化層、設(shè)置于所述P型基體硅的表面的金屬區(qū)的高摻雜多晶硅層及設(shè)置于所述高摻雜多晶硅層表面的正表面電極;所述高摻雜多晶硅層為P型半導(dǎo)體層,且摻雜濃度高于所述P型基體硅;所述背光面外延層包括設(shè)置于所述P型基體硅表面的背面遂穿氧化層,設(shè)置于所述背面遂穿氧化層表面的N型摻雜層、設(shè)置于所述N型摻雜層表面的金屬區(qū)的背表面電極及設(shè)置于所述N型摻雜層表面的非金屬區(qū)的背面鈍化層。本發(fā)明使太陽(yáng)能電池表面鈍化與發(fā)射極的表面完整性兼得。本發(fā)明還提供了一種具有上述優(yōu)點(diǎn)的光伏組件。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光伏新能源領(lǐng)域,特別是涉及一種高效P型太陽(yáng)能電池及光伏組件。
背景技術(shù)
高效率、低成本是太陽(yáng)能電池研究最重要的兩個(gè)方向。對(duì)于晶體硅太陽(yáng)能電池來(lái)說(shuō),隨著晶體硅制造技術(shù)的提升,基體硅片的體載流子壽命不斷提高,已經(jīng)不再是制約電池效率提升的關(guān)鍵因素。而電池表面的鈍化對(duì)轉(zhuǎn)換效率的影響越來(lái)越明顯。太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)過程中,基體硅片的成本占整個(gè)生產(chǎn)成本的比例最高,為降低生產(chǎn)成本,盡快實(shí)現(xiàn)光伏電價(jià)“平價(jià)上網(wǎng)”,提高市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力,硅片薄化是必然的趨勢(shì),隨之產(chǎn)生的問題就是電池表面復(fù)合嚴(yán)重,為了在硅片薄化的過程中仍然保持電池的高轉(zhuǎn)化效率,對(duì)晶體硅太陽(yáng)電池表面鈍化技術(shù)的研究是必不可少的
然而在太陽(yáng)能電池中,PN結(jié)是產(chǎn)生光伏電流的必要條件,以P型PERC電池為例,P型硅基體上磷擴(kuò)散制備的N型發(fā)射極與P型硅基體形成PN結(jié),產(chǎn)生內(nèi)建電場(chǎng),從而在光照時(shí)產(chǎn)生光生伏特效應(yīng);因此發(fā)射極的均勻性、一致性嚴(yán)重影響著電池的開路電壓和短路電流,而現(xiàn)有的表面鈍化技術(shù)卻會(huì)不同程度地破壞所述發(fā)射極的表面完整性,進(jìn)而影響太陽(yáng)能電池的發(fā)電效率。
因此,如何找到一種太陽(yáng)能電池表面鈍化與發(fā)射極表面完整性兼得的太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu),是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種高效P型太陽(yáng)能電池及光伏組件,以解決現(xiàn)有技術(shù)中優(yōu)秀的表面鈍化效果與發(fā)射極的表面完整性不可兼得的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種高效P型太陽(yáng)能電池,包括迎光面外延層、P型基體硅及背光面外延層;
所述迎光面外延層沿遠(yuǎn)離所述P型基體硅的方向依次包括設(shè)置于所述P型基體硅的表面的非金屬區(qū)的正面鈍化層、設(shè)置于所述P型基體硅的表面的金屬區(qū)的高摻雜多晶硅層及設(shè)置于所述高摻雜多晶硅層表面的正表面電極;
所述高摻雜多晶硅層為P型半導(dǎo)體層,且摻雜濃度高于所述P型基體硅;
所述背光面外延層沿遠(yuǎn)離所述P型基體硅的方向依次包括設(shè)置于所述P型基體硅表面的背面遂穿氧化層,設(shè)置于所述背面遂穿氧化層表面的N型摻雜層、設(shè)置于所述N型摻雜層表面的金屬區(qū)的背表面電極及設(shè)置于所述N型摻雜層表面的非金屬區(qū)的背面鈍化層。
可選地,在所述的高效P型太陽(yáng)能電池中,所述高效P型太陽(yáng)能電池還包括正面遂穿氧化層;
所述正面遂穿氧化層設(shè)置于所述高摻雜多晶硅層及所述P型基體硅之間。
可選地,在所述的高效P型太陽(yáng)能電池中,所述正面遂穿氧化層及所述背面遂穿氧化層的厚度范圍為1.5納米至2.5納米,包括端點(diǎn)值。
可選地,在所述的高效P型太陽(yáng)能電池中,所述高摻雜多晶硅層的厚度范圍為50納米至150納米,包括端點(diǎn)值。
可選地,在所述的高效P型太陽(yáng)能電池中,所述高效P型太陽(yáng)能電池還包括高摻雜擴(kuò)散層;
所述高摻雜擴(kuò)散層設(shè)置于所述P型基體硅及所述正面鈍化層之間;
所述高摻雜擴(kuò)散層為P型半導(dǎo)體層,且摻雜濃度高于所述P型基體硅。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





