[發(fā)明專利]一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶及其生產(chǎn)工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010468887.2
• 申請(qǐng)日: 2020-05-28
• 公開（公告）號(hào): CN111592838B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孟凡偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 馬鞍山東毅新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C09J7/50
• 分類號(hào): C09J7/50;C09J7/24;C09J7/25;C09J7/20
• 代理公司: 北京和聯(lián)順知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11621
• 代理人: 李照

本發(fā)明公開了一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶及其生產(chǎn)工藝，屬于光學(xué)膠帶技術(shù)領(lǐng)域，包括基底、抗蝕層、負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層，所述基底的表面涂覆有抗蝕層、負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層，所述抗蝕層位于負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層、基底之間。可直接在物體上粘接光學(xué)膠帶，使得物體的表面直接具有負(fù)性光刻膠的成像特性，且物體表面的負(fù)性光刻膠層受基底覆蓋防護(hù)，兩側(cè)受光學(xué)膠層支撐，不會(huì)產(chǎn)生膠路因過(guò)厚導(dǎo)致坍塌。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及其光學(xué)膠帶技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及其一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶及其生產(chǎn)工藝。

背景技術(shù)

光學(xué)膠帶才采用光學(xué)膠制作，具有無(wú)色透明、光透過(guò)率在90％以上、膠結(jié)強(qiáng)度良好、可在室溫或中溫下固化，且固化收縮小等特點(diǎn)。負(fù)性光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種由感光樹脂、增感劑(見光譜增感染料)和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體，光刻膠在接受一定波長(zhǎng)的光或者射線時(shí),會(huì)相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵(lì)作用，其中光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠。

專利號(hào)為CN201110420291.6提供一種基于負(fù)性光刻膠的擴(kuò)散片光刻工藝方法，該方法包括如下步驟：首先，在襯底表面涂覆光刻膠，然后進(jìn)行前烘，將旋涂有負(fù)性光刻膠的襯底進(jìn)行前烘，去除負(fù)性光刻膠的溶劑；接著曝光，擴(kuò)散片位于掩膜板之上，利用擴(kuò)散片和掩膜板作為掩膜對(duì)負(fù)性光刻膠進(jìn)行紫外曝光；最后進(jìn)行后烘和顯影，曝光區(qū)域中的負(fù)性光刻膠在后烘中交聯(lián)，不溶于顯影液，得到具有特定的截面結(jié)構(gòu)；擴(kuò)散片和掩膜板一起作為掩膜參與光刻膠的曝光。采用擴(kuò)散片結(jié)合負(fù)性光刻膠的光刻工藝，利用擴(kuò)散片將光源由線性光轉(zhuǎn)變?yōu)槁⑸涔猓⒔Y(jié)合負(fù)性光刻膠的成像特性，制備出傳統(tǒng)光刻法無(wú)法實(shí)現(xiàn)的三維微結(jié)構(gòu)圖形。本發(fā)明可利用單次光刻可得到圓弧形，雙圓弧形等復(fù)雜截面圖形結(jié)構(gòu)。但是光刻膠的使用目前均是通過(guò)在物體表面涂覆光刻膠，再進(jìn)行烘干、曝光等工藝制作，光刻膠在物體表面易坍塌，當(dāng)光刻膠路越高，其厚度受限則越低，且獲得光刻膠成像特性的物體需要經(jīng)過(guò)繁雜的工序，不能夠立即獲得。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶及其生產(chǎn)工藝，可直接在物體上粘接光學(xué)膠帶，使得物體的表面直接具有負(fù)性光刻膠的成像特性，且物體表面的負(fù)性光刻膠層受基底覆蓋防護(hù)，兩側(cè)受光學(xué)膠層支撐，不會(huì)產(chǎn)生膠路因過(guò)厚導(dǎo)致坍塌，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶，包括基底、抗蝕層、負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層，所述基底的表面涂覆有抗蝕層、負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層，所述抗蝕層位于負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層、基底之間；

所述基底的寬度為負(fù)性光刻膠層寬度的～倍，且基底呈板狀，抗蝕層和負(fù)性光刻膠層以路線形式分布于基底上表面和下表面，基底上表面和下表面剩余空白部分涂覆光學(xué)膠層，負(fù)性光刻膠層和光學(xué)膠層的外表面相互平齊；

所述抗蝕層為光線隔離材料，抗蝕層由鋁粉、玻璃纖維和凝膠劑構(gòu)成。

進(jìn)一步地，所述基底為PET、PVC、PS材料或硅片、玻璃中的一種或多種所制成的結(jié)構(gòu)層。

進(jìn)一步地，所述光學(xué)膠層為光強(qiáng)范圍為1000mJ/cm²～5000mJ/cm²的短波紫外光固化的液態(tài)光學(xué)膠，固化率50％以上。

根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶的生產(chǎn)工藝，包括以下步驟：

S101：基底表面依次涂覆抗蝕層和負(fù)性光刻膠層，形成負(fù)性光刻膠層線路；

S102：將基底進(jìn)行前烘，去除負(fù)性光刻膠的溶劑；

S103：S102中的基底進(jìn)行曝光、后烘和顯影；

S104：在基底表面涂覆光學(xué)膠層，光學(xué)膠層與負(fù)性光刻膠層形成膠面。

進(jìn)一步地，S103中所述曝光為接觸式曝光、微距曝光、步進(jìn)投影曝光中任意一種。