[發(fā)明專利]一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶及其生產(chǎn)工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010468887.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111592838B | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孟凡偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 馬鞍山東毅新材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09J7/50 | 分類號(hào): | C09J7/50;C09J7/24;C09J7/25;C09J7/20 |
| 代理公司: | 北京和聯(lián)順知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11621 | 代理人: | 李照 |
| 地址: | 238200 安徽省馬鞍山*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 光刻 光學(xué) 膠帶 及其 生產(chǎn)工藝 | ||
1.一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶,其特征在于,包括基底(1)、抗蝕層(2)、負(fù)性光刻膠層(3)和光學(xué)膠層(4),所述基底(1)的表面涂覆有抗蝕層(2)、負(fù)性光刻膠層(3)和光學(xué)膠層(4),所述抗蝕層(2)位于負(fù)性光刻膠層(3)和光學(xué)膠層(4)、基底(1)之間;
所述基底(1)的寬度為負(fù)性光刻膠層(3)寬度的4~5倍,且基底(1)呈板狀,抗蝕層(2)和負(fù)性光刻膠層(3)以路線形式分布于基底(1)上表面和下表面,基底(1)上表面和下表面剩余空白部分涂覆光學(xué)膠層(4),負(fù)性光刻膠層(3)和光學(xué)膠層(4)的外表面相互平齊;
所述抗蝕層(2)為光線隔離材料,抗蝕層(2)由鋁粉、玻璃纖維和凝膠劑構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶,其特征在于,所述基底(1)為PET、PVC、PS材料或硅片、玻璃中的一種或多種所制成的結(jié)構(gòu)層。
3.如權(quán)利要求1所述的一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶,其特征在于,所述光學(xué)膠層(4)為光強(qiáng)范圍為1000mJ/cm2~5000mJ/cm2的短波紫外光固化的液態(tài)光學(xué)膠,固化率50%以上。
4.一種如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶的生產(chǎn)工藝,其特征在于,包括以下步驟:
S101:基底(1)表面依次涂覆抗蝕層(2)和負(fù)性光刻膠層(3),形成負(fù)性光刻膠層(3)線路;
S102:將基底(1)進(jìn)行前烘,去除負(fù)性光刻膠的溶劑;
S103:S102中的基底(1)進(jìn)行曝光、后烘和顯影;
S104:在基底(1)表面涂覆光學(xué)膠層(4),光學(xué)膠層(4)與負(fù)性光刻膠層(3)形成膠面。
5.如權(quán)利要求4所述的一種基于負(fù)性光刻膠的光學(xué)膠帶的生產(chǎn)工藝,其特征在于,S103中所述曝光為接觸式曝光、微距曝光、步進(jìn)投影曝光中任意一種。
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