[發(fā)明專利]基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010467764.7
• 申請(qǐng)日: 2020-05-28
• 公開（公告）號(hào): CN111628045B
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱輝;成秋云;黃心沿;劉帥;肖潔;吳得軼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南紅太陽(yáng)光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L31/18
• 分類號(hào): H01L31/18;H01L21/66;H01L21/677;C23C16/50;C23C16/52;C23C16/54
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙) 43008
• 代理人: 戴玲

1.一種基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、石墨舟就位：經(jīng)過插取片機(jī)插好片的石墨舟(1)通過傳送機(jī)構(gòu)移動(dòng)至PECVD的凈化臺(tái)下方；

S2、石墨舟上緩存架：機(jī)械手抓取石墨舟(1)放到凈化臺(tái)的緩存架(2)上等待，緩存架(2)上設(shè)有多個(gè)緩存位(21)，所述緩存位(21)用于放置石墨舟(1)，所述緩存架(2)的每個(gè)緩存位(21)對(duì)應(yīng)設(shè)有鍍膜檢測(cè)裝置(5)；

S3、進(jìn)舟前鍍膜檢測(cè)：對(duì)緩存架(2)上的各石墨舟(1)內(nèi)的硅片進(jìn)行是否有鍍膜的檢測(cè)，如無(wú)鍍膜，反饋給機(jī)械手，待反應(yīng)室(3)有空位，機(jī)械手抓取緩存架(2)上無(wú)鍍膜的石墨舟(1)放到推舟機(jī)構(gòu)(4)上；

S4、石墨舟進(jìn)反應(yīng)室：推舟機(jī)構(gòu)(4)將石墨舟(1)送入反應(yīng)室(3)，進(jìn)行鍍膜工藝；

S5、石墨舟出反應(yīng)室：工藝結(jié)束，推舟機(jī)構(gòu)(4)進(jìn)入反應(yīng)室(3)取出石墨舟(1)，機(jī)械手抓取工藝后的石墨舟(1)放至緩存架(2)上冷卻；

S6、取片前鍍膜檢測(cè)：冷卻結(jié)束，對(duì)緩存架(2)上的各石墨舟(1)內(nèi)的硅片進(jìn)行是否有鍍膜的檢測(cè)，如有鍍膜，反饋給機(jī)械手，機(jī)械手抓取緩存架(2)上有鍍膜的石墨舟(1)放至凈化臺(tái)下方的傳送機(jī)構(gòu)上；

S7、石墨舟返回插取片機(jī)：傳送機(jī)構(gòu)將石墨舟(1)送回插取片機(jī)進(jìn)行取片，并進(jìn)入下一工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述步驟S3中，鍍膜的檢測(cè)之后，對(duì)無(wú)鍍膜的各石墨舟(1)進(jìn)行計(jì)時(shí)，并反饋給機(jī)械手，待反應(yīng)室(3)有空位，機(jī)械手抓取計(jì)時(shí)先結(jié)束的無(wú)鍍膜的石墨舟(1)放到推舟機(jī)構(gòu)(4)上；所述步驟S6中，鍍膜的檢測(cè)之后，對(duì)有鍍膜的各石墨舟(1)石墨舟進(jìn)行計(jì)時(shí)，并反饋給機(jī)械手，機(jī)械手抓取計(jì)時(shí)先結(jié)束的有鍍膜的石墨舟(1)放在傳送機(jī)構(gòu)上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述步驟S3和步驟S6中，鍍膜檢測(cè)方法為：檢測(cè)探頭(52)伸入緩存架(2)上的石墨舟(1)內(nèi)相鄰兩個(gè)舟片(11)之間，檢測(cè)舟片(11)上的硅片的顏色，若顏色為灰色表示沒有鍍膜，否則就是有鍍膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述緩存架(2)的每個(gè)緩存位(21)對(duì)應(yīng)設(shè)有鍍膜檢測(cè)裝置(5)，所述鍍膜檢測(cè)裝置(5) 包括升降驅(qū)動(dòng)(51)和所述檢測(cè)探頭(52)，所述升降驅(qū)動(dòng)(51)固定在緩存位(21)處，所述檢測(cè)探頭(52)設(shè)于升降驅(qū)動(dòng)(51)的驅(qū)動(dòng)端，并在升降驅(qū)動(dòng)(51)的帶動(dòng)下插入石墨舟(1)內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述升降驅(qū)動(dòng)(51)為升降氣缸，所述檢測(cè)探頭(52)通過探頭支架(53)固定在升降氣缸的活塞桿上。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述鍍膜檢測(cè)裝置(5)還包括光源(54)，所述光源(54)設(shè)于探頭支架(53)安裝檢測(cè)探頭(52)的這一端。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述鍍膜檢測(cè)裝置(5)設(shè)于緩存位(21)的一端部，且位于緩存位(21)上石墨舟(1)的下方，檢測(cè)時(shí)，升降驅(qū)動(dòng)(51)帶動(dòng)檢測(cè)探頭(52)上升插入石墨舟(1)內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的基于鍍膜檢測(cè)的PECVD表面鍍膜的上下料方法，其特征在于，所述推舟機(jī)構(gòu)(4)上設(shè)置輔助支撐(7)，所述輔助支撐(7)包括支撐座(71)和支撐桿(72)，所述支撐座(71)固定在推舟機(jī)構(gòu)(4)的水平移動(dòng)模組(41)的下方，所述支撐桿(72)安裝在支撐座(71)上，所述推舟機(jī)構(gòu)(4)的推舟槳(42)懸空一端可搭在支撐桿(72)上。