[發明專利]基于鍍膜檢測的PECVD表面鍍膜的上下料方法

有效

• 申請號: 202010467764.7
• 申請日: 2020-05-28
• 公開（公告）號: CN111628045B
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發明（設計）人: 朱輝;成秋云;黃心沿;劉帥;肖潔;吳得軼
• 申請（專利權）人: 湖南紅太陽光電科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/66;H01L21/677;C23C16/50;C23C16/52;C23C16/54
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008
• 代理人: 戴玲

本發明公開了一種基于鍍膜檢測的PECVD表面鍍膜的上下料方法，包括石墨舟就位、石墨舟上緩存架、進舟前鍍膜檢測、石墨舟進反應室、石墨舟出反應室、取片前鍍膜檢測、石墨舟返回插取片機等步驟。本發明在緩存架上設置檢測石墨舟是否有無鍍膜的裝置，增加兩步是否鍍膜檢測步驟，其一為機械手根據檢測結果直接抓取緩存架上無鍍膜的石墨舟放入推舟機構上，然后由推舟機構送入反應室內鍍膜，可避免出現反應室內出現二次鍍膜，其二為機械手根據檢測結果抓取緩存架上有鍍膜的石墨舟放在傳送機構上，由傳送機構送入插取片機進行取片，避免沒有進行鍍膜的硅片流入下一道工序，確保每一舟硅片完成鍍膜，而且沒有重復鍍膜，保證了生產流程的順暢。

技術領域

本發明涉及PECVD表面鍍膜工序，尤其涉及一種基于鍍膜檢測的PECVD表面鍍膜的上下料方法。

背景技術

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD設備包括三部分即氣源柜、爐體柜和凈化臺，反應室位于爐體柜內；推舟機構、緩存架、機械手位于凈化臺內；傳送機構連通凈化臺和插取片機)是指等離子體增強化學的氣相沉積法。在PECVD表面鍍膜工序中石墨舟是電池片的載體，硅片經過若干工序后加工成為太陽能電池片，表面鍍膜是太陽能電池片加工的核心工序之一。石墨舟是太陽能電池片在表面鍍膜工序中的載體，上一道工序中的花籃流經插片機，將電池片插進石墨舟。石墨舟經過移舟機構移到凈化臺下方，然后由機械手抓取放置在緩存架上，待反應室有空位時，機械手抓取石墨舟放入推舟機構，然后由推舟機構送進反應室進行鍍膜。鍍膜完成后，有推舟機構取出，然后由機械手抓取放置到緩存加冷卻，待冷卻完成后機械手抓取石墨舟放在凈化臺下面，經過移舟機構移到插片機，插入花籃送到下一道工序。因為緩存架既存放沒有鍍膜的舟，也有已經完成鍍膜的舟，因此有將沒有鍍膜的石墨舟硅片送到下一道工序，也有將已經鍍膜的石墨舟再次送入反應室鍍膜，造成電池片生產過程混亂，未鍍膜和重復鍍膜的電池片效率降低。

目前還沒有對石墨舟內電池片是否鍍膜檢測，現有技術中相近的技術是在插片機上增加檢測模塊，在電池片從花籃流出來以后進行檢測，例如攝像頭和光源，拍照檢測電池片的碎片、隱裂、色差。現有技術還有在插片機內，電池片傳輸的輸送線上增加X射線進行鍍膜厚度、均勻性檢測。但是這兩種方式都是對在插片機內進行單片檢測，可以檢測進入石墨舟之前單片是否碎片、隱裂的，以及鍍膜后進入下一道工序花籃前鍍膜厚度、均勻性是否達到要求等檢測，但是都沒有進行石墨舟內硅片是否鍍膜檢測。因此，容易出現整舟重復鍍膜或者整舟沒有鍍膜現象，影響整線生產效率和電池片的質量。

發明內容

本發明要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種避免出現反應室內出現二次鍍膜以及避免沒有進行鍍膜的硅片流入下一道工序的基于鍍膜檢測的PECVD表面鍍膜的上下料方法。

為解決上述技術問題，本發明采用以下技術方案：

一種基于鍍膜檢測的PECVD表面鍍膜的上下料方法，包括以下步驟：

S1、石墨舟就位：經過插取片機插好片的石墨舟通過傳送機構移動至PECVD的凈化臺下方；

S2、石墨舟上緩存架：機械手抓取石墨舟放到凈化臺的緩存架上等待；

S3、進舟前鍍膜檢測：對緩存架上的各石墨舟內的硅片進行是否有鍍膜的檢測，如無鍍膜，反饋給機械手，待反應室有空位，機械手抓取緩存架上無鍍膜的石墨舟放到推舟機構上；

S4、石墨舟進反應室：推舟機構將石墨舟送入反應室，進行鍍膜工藝；

S5、石墨舟出反應室：工藝結束，推舟機構進入反應室取出石墨舟，機械手抓取工藝后的石墨舟放至緩存架上冷卻；

S6、取片前鍍膜檢測：冷卻結束，對緩存架上的各石墨舟內的硅片進行是否有鍍膜的檢測，如有鍍膜，反饋給機械手，機械手抓取緩存架上有鍍膜的石墨舟放至凈化臺下方的傳送機構上；