[發明專利]法蘭連接件視覺檢測及中心孔打孔裝置有效
| 申請號: | 202010464179.1 | 申請日: | 2020-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN111571310B | 公開(公告)日: | 2021-12-10 |
| 發明(設計)人: | 劉書京;靳磊;張延嶺 | 申請(專利權)人: | 京鴻石油鉆采工程技術有限公司 |
| 主分類號: | B23Q17/20 | 分類號: | B23Q17/20;B23B47/00;B23B41/00 |
| 代理公司: | 北京國坤專利代理事務所(普通合伙) 11491 | 代理人: | 趙紅霞 |
| 地址: | 053300*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 法蘭 連接 視覺 檢測 中心 打孔 裝置 | ||
1.法蘭連接件視覺檢測及中心孔打孔裝置,其特征在于,包括:
底座,所述底座上端設有滑軌,所述滑軌長度方向與所述底座長度方向平行,所述底座的高度可調節;
旋轉機構,設于所述底座上端,用于驅動連接件周向旋轉;
探測機構,圍繞所述旋轉機構設置,借助于連接件旋轉用于探測位于所述旋轉機構上連接件的外壁質量缺陷信息;所述探測機構與所述旋轉機構交替運行;
夾持機構,設于所述底座上端,用于夾持連接件并使連接件呈水平狀,所述夾持機構對連接件的夾持高度和水平夾持位置可調;
機械臂,設于所述底座上,所述探測機構對位于所述旋轉機構上的連接件檢測完畢后且連接件為無缺陷,所述機械臂用于將連接件轉運至所述夾持機構上;
打孔機構,設于所述底座上端且位于所述夾持機構的一側,可沿所述滑軌滑動,用于向置于所述夾持機構上的連接件端部打中心孔,所述打孔機構對連接件的打孔深度可調;
第一控制機構,設于所述底座上,與所述探測機構電性連接,用于接收所述探測機構的探測信息并控制所述旋轉機構旋轉;以及
第二控制機構,設于所述底座上,用于控制所述打孔機構的打孔深度和控制所述夾持機構對連接件的夾持和釋放動作;
在連接件的下方還設置有承托機構,承托機構包括兩相對設置的圓弧形撐板,在圓弧形撐板的內壁上設有多個輥筒,輥筒可在圓弧形撐板上轉動,當與連接件外壁接觸后,通過旋轉機構的驅動,則可帶動多個輥筒轉動,可使連接件與承托機構之間的摩擦力減?。?/p>
所述探測機構包括:
上探測單元,置于連接件上方,可沿連接件軸線方向移動,用于探測連接件外壁上部質量缺陷信息;以及
下探測單元,置于連接件下方,可沿連接件軸線方向移動,用于探測連接件外壁下部質量缺陷信息,所述上探測單元和所述下探測單元分別借助于所述旋轉機構的旋轉可探測連接件周向外壁質量缺陷信息,所述上探測單元和所述下探測單元的軸向移動可探測連接件軸向外壁質量缺陷信息;
所述上探測單元包括:
弧形罩,上端面用于連接位于連接件上方的固定物上,所述弧形罩的弧度與連接件的外圓弧弧度相匹配,所述弧形罩的高度可調,所述弧形罩可沿連接件軸向移動;以及
第一探測器,為多個,分別均勻固設于所述弧形罩下端面,多個所述第一探測器分別借助于連接件的旋轉用于探測連接件上部質量缺陷信息;第一探測器對連接件的探測角度是可以調節;
所述下探測單元包括:
滑撐,下端面用于連接位于連接件下方的固定物上,所述滑撐的高度可調,所述滑撐可沿連接件軸向移動;以及
第二探測器,為多個,分別均勻固設于所述滑撐上端面,多個所述第二探測器分別借助于連接件的旋轉用于探測連接件下部質量缺陷信息,連接件在由多個所述第一探測器和多個所述第二探測器圍成的圓形區域內,多個所述第一探測器和多個所述第二探測器均沿連接件軸向探測,在弧形罩上端和滑撐下端均橫向設有第一電動推桿,可實現弧形罩和滑撐在水平方向上位置的調節,便于在連接件軸向上進行探測;在第一電動推桿遠離推頂端的一端豎向設置第二電動推桿,所述第二電動推桿可以在豎向上調節對連接件的徑向探測距離。
2.如權利要求1所述的法蘭連接件視覺檢測及中心孔打孔裝置,其特征在于,所述第一控制機構包括:
接收單元,用于接收所述探測機構的探測信息;
控制單元,與所述接收單元的信號輸出端連接,用于接收探測連接件的缺陷信息和控制連接件的旋轉角度;以及
顯示單元,與所述控制單元連接,用于顯示連接件的質量缺陷信息。
3.如權利要求1所述的法蘭連接件視覺檢測及中心孔打孔裝置,其特征在于,所述夾持機構包括:
框架,設于所述底座上,所述框架的高度可調;
第一夾持件,設于所述框架內,所述第一夾持件的高度借助于所述框架調節,所述第一夾持件可沿所述底座的長度方向滑動、也可沿所述底座的寬度方向滑動,所述第一夾持件上用于放置連接件,連接件的高度和水平位置借助于所述第一夾持件調節并可與所述打孔機構對齊;以及
第二夾持件,設于所述框架內且位于所述第一夾持件的上方,所述第二夾持件可沿所述底座的豎直方向推頂連接件,連接件借助于所述第一夾持件和所述第二夾持件的對夾而限位。
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