[發(fā)明專利]基板處理方法、基板處理裝置以及計算機可讀存儲介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010450886.5
• 申請日: 2017-02-22
• 公開（公告）號: CN111580347B
• 公開（公告）日: 2023-06-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 野田康朗;西山直
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/66;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種基板處理方法，其包括以下工序：

從照相機取得被處理基板的端面的拍攝圖像；

對所述被處理基板的端面的拍攝圖像進(jìn)行圖像處理，來取得所述被處理基板的端面的形狀數(shù)據(jù)；以及

基于翹曲量已知的基準(zhǔn)基板的端面的形狀數(shù)據(jù)以及利用圖像處理得到的所述被處理基板的端面的形狀數(shù)據(jù)對所述被處理基板的翹曲量進(jìn)行計算。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理方法，還包括以下工序：

從照相機取得所述基準(zhǔn)基板的端面的拍攝圖像；以及

對所述基準(zhǔn)基板的端面的拍攝圖像進(jìn)行圖像處理，來取得所述基準(zhǔn)基板的端面的形狀數(shù)據(jù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理方法，其中，

所述基準(zhǔn)基板是平坦的，

所述基準(zhǔn)基板的端面的形狀數(shù)據(jù)是穿過所述基準(zhǔn)基板的端面的中央的第1輪廓線的數(shù)據(jù)，

所述被處理基板的端面的形狀數(shù)據(jù)是穿過所述被處理基板的端面的中央的第2輪廓線的數(shù)據(jù)，

對所述被處理基板的翹曲量進(jìn)行計算的工序包括：基于所述第1輪廓線的數(shù)據(jù)和所述第2輪廓線的數(shù)據(jù)對所述被處理基板的翹曲量進(jìn)行計算。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的基板處理方法，其中，

從照相機取得所述被處理基板的端面的拍攝圖像的工序包括：從照相機取得在用于溶解表面形成的膜的溶劑被供給到周緣部之前的狀態(tài)下的所述被處理基板的端面的拍攝圖像。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的基板處理方法，其中，

從照相機取得所述被處理基板的端面的拍攝圖像的工序包括：從照相機取得在用于溶解表面形成的膜的溶劑被供給到周緣部之后且進(jìn)行了加熱處理后的狀態(tài)下的所述被處理基板的端面的拍攝圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的基板處理方法，還包括以下工序：

從照相機取得所述被處理基板的拍攝圖像；以及

對所述被處理基板的拍攝圖像進(jìn)行圖像處理而對所述被處理基板的狀態(tài)進(jìn)行檢查。

7.一種基板處理裝置，其具備：

存儲部，其構(gòu)成為從照相機取得被處理基板的端面的拍攝圖像；

處理部，其構(gòu)成為執(zhí)行以下處理：

第1處理，在該第1處理中，對所述存儲部中的所述被處理基板的端面的拍攝圖像進(jìn)行圖像處理而取得所述被處理基板的端面的形狀數(shù)據(jù)；以及

第2處理，在該第2處理中，基于翹曲量已知的基準(zhǔn)基板的端面的形狀數(shù)據(jù)以及利用圖像處理得到的所述被處理基板的端面的形狀數(shù)據(jù)對所述被處理基板的翹曲量進(jìn)行計算。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其中，

所述存儲部構(gòu)成為從照相機取得所述基準(zhǔn)基板的端面的拍攝圖像，

所述處理部構(gòu)成為還執(zhí)行第3處理，在該第3處理中，對所述存儲部中的所述基準(zhǔn)基板的端面的拍攝圖像進(jìn)行圖像處理而取得所述基準(zhǔn)基板的端面的形狀數(shù)據(jù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其中，

所述基準(zhǔn)基板是平坦的，

所述基準(zhǔn)基板的端面的形狀數(shù)據(jù)是穿過所述基準(zhǔn)基板的端面的中央的第1輪廓線的數(shù)據(jù)，

所述被處理基板的端面的形狀數(shù)據(jù)是穿過所述被處理基板的端面的中央的第2輪廓線的數(shù)據(jù)，

所述第2處理包括：基于所述第1輪廓線的數(shù)據(jù)和所述第2輪廓線的數(shù)據(jù)對所述被處理基板的翹曲量進(jìn)行計算。

10.根據(jù)權(quán)利要求7～9中的任一項所述的基板處理裝置，其中，

所述存儲部構(gòu)成為從照相機取得在用于溶解表面形成的膜的溶劑被供給到周緣部之前的狀態(tài)下的所述被處理基板的端面的拍攝圖像。

11.根據(jù)權(quán)利要求7～9中的任一項所述的基板處理裝置，其中，

所述存儲部構(gòu)成為從照相機取得在用于溶解表面形成的膜的溶劑被供給到周緣部之后且進(jìn)行了加熱處理后的狀態(tài)下的所述被處理基板的端面的拍攝圖像。