[發明專利]一種提高曝光分辨率的版圖結構及制作方法

有效

• 申請號: 202010446374.1
• 申請日: 2020-05-25
• 公開（公告）號: CN111596521B
• 公開（公告）日: 2023-08-15
• 發明（設計）人: 陳憲宏;曾鼎程;胡展源
• 申請（專利權）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F1/36;G03F1/70
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 戴廣志

1.一種提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于，至少包括：

原始版圖；所述原始版圖至少包括位于同一圖層、形狀為條形結構且自上而下依次平行分布的第一至第三圖形；所述第一圖形位于所述第二圖形的左上方，所述第三圖形位于所述第二圖形的右下方；所述第二圖形中非端部的一部分定義為第二分段圖形；

所述第一圖形右邊端部圖形定義為第一分段圖形；所述第三圖形左邊端部定義為第三分段圖形；所述第二分段圖形向上完全投影于所述第一分段圖形并且向下完全投影于所述第三分段圖形；并且所述第一分段圖形與所述第三分段圖形的長度均大于所述第二分段圖形的長度。

2.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一至第三圖形的寬度相等。

3.根據權利要求2所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第二圖形與所述第一圖形的間距等于所述第二圖形與所述第三圖形的間距。

4.根據權利要求3所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第二圖形中定義為第二分段圖形的部分位于所述第二圖形的中間部分。

5.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一圖形和第三圖形的長度相等。

6.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一分段圖形相對于所述第二分段圖形，從左至右延伸，所述第一分段圖形的左端部起始于所述第二分段圖形的左端部，所述第一分段圖形的右端部終止于所述第二分段圖形右端部的右上方。

7.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第三分段圖形相對于所述第二分段圖形，從右至左延伸，所述第三分段圖形的右端部起始于所述第二分段圖形的右端部，所述第三分段圖形的左端部終止于所述第二分段圖形左端部的左下方。

8.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一分段圖形與所述第三分段圖形的長度相等。

9.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一分段圖形與所述第三分段圖形的長度均大于120nm。

10.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一分段圖形與所述第三分段圖形的長度均等于120nm。

11.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一分段圖形右邊的所述第二圖形上方為空曠環境。

12.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第三分段圖形左邊的所述第二圖形下方為空曠環境。

13.根據權利要求1所述的提高曝光分辨率的版圖結構，其特征在于：所述第一圖形左邊端部連接有不規則圖形，所述不規則圖形與所述第一圖形構成OPC修正前的原始版圖圖形；所述第二圖形的兩個端部連接有不規則圖形，所述不規則圖形與所述第二圖形構成OPC修正前的原始版圖圖形；所述第三圖形右端部連接有不規則圖形，所述不規則圖形與所述第三圖形構成OPC修正前的原始版圖圖形。