[發明專利]濾波器單元，包括該濾波器單元的基板處理設備和基板處理方法

在審

• 申請號: 202010434951.5
• 申請日: 2020-05-21
• 公開（公告）號: CN111988008A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: O·噶爾斯特延;成曉星;全炳建;安宗煥
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: H03H9/17
• 分類號: H03H9/17;H03H3/02;H01J37/32
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 鐘錦舜;童劍雄

公開了一種基板處理設備。基板處理設備可包括：腔室，在腔室中限定有處理空間；支撐單元，用于將基板支撐在處理空間中；加熱器電源，其用于向支撐單元中的加熱器施加電力；以及高頻電源，用于將高頻電力施加到支撐單元中的下部電極；以及濾波器單元，其安裝在用于將加熱器電源與加熱器連接的線路處以防止高頻流入。濾波器單元可包括：殼體；殼體中的一個或多個線圈；以及設置在殼體與線圈之間的調節構件。調節構件可以由非磁性材料制成。調節構件可以以預定間隔與線圈間隔開，并且與殼體的內壁間隔開或者與殼體的內壁接觸。

相關申請的交叉引用

根據35U.S.C.§119要求在2019年5月22日向韓國知識產權局提交的韓國專利申請第10-2019-0060068號的優先權，該申請的全部內容以引用方式并入本文。

技術領域

本文描述的發明構思的實施例涉及濾波器單元和包括該濾波器單元的基板處理設備。另外，本文描述的發明構思的實施例還涉及使用濾波器單元的基板處理方法。

背景技術

在基板處理設備中，靜電吸盤可用于將放置在腔室中的基板支撐件上的基板固定。當將基板放置在基板支撐件上時，將電流提供給設置在基板支撐件上的靜電吸盤以產生靜電，并且靜電吸盤使用這種靜電將基板附接到基板支撐件上。另外，靜電吸盤還包括用于在處理期間調節基板的溫度的加熱器。加熱器被供應交流電并且產生熱量以將基板保持在恒定溫度。在使用等離子體的基板處理工藝中，基板的溫度極大地影響了基板上的等離子體的形成，因此用于將基板保持在適當溫度的靜電吸盤的加熱器控制在該工藝的生產率中起重要作用。

傳統的靜電吸盤具有的問題在于，由于將等離子體或RF偏置信號施加到基板支架以控制等離子體，因此會將噪聲信號引入到將交流電提供給加熱器的交流電源中。這種噪聲信號干擾了加熱器的精確控制，從而降低了基板處理過程中設備的等離子體控制能力，從而降低了過程的生產率。為了克服這種問題，已經公開了一種結構，其中將加熱器連接至RF濾波器以去除噪聲信號。

然而，在包括在RF濾波器中的無源裝置中，存在的問題在于，因為除了由無源裝置產生的阻抗之外還產生了雜散電容，所以不能執行精確的RF濾波。

發明內容

本發明構思的實施例是通過調節殼體的內壁與電路元件之間的距離來調節RF濾波器內部的雜散電容。

本發明構思的實施例是通過調節RF濾波器內部的雜散電容來執行更精確的RF濾波。

本發明構思要解決的問題不限于上述問題。根據以下描述，本發明構思所屬的領域的技術人員將清楚地理解未提及的其他技術問題。

公開了一種用于處理基板的設備。

根據示例性實施例，一種用于處理基板的設備包括：腔室，其在腔室中限定有處理空間；支撐單元，其用于將基板支撐在處理空間中；加熱器電源，其用于向容納在支撐單元中的加熱器施加電力；高頻電源，其用于將高頻電力施加到容納在所述支撐單元中的下部電極；以及濾波器單元，其安裝在用于將所述加熱器電源和所述加熱器彼此連接的線路處以防止高頻流入。

濾波器單元可包括殼體，容納在殼體中的一個或多個線圈以及設置在殼體與線圈之間的調節構件。

調節構件可以由非磁性材料制成。

調節構件可以由介電材料制成或者可以實施為浮動壁。

調節構件可以以預定間隔與線圈間隔開，其中，調節構件可以與殼體的內壁隔開或者可以與殼體的內壁接觸。

濾波器單元的調節構件可以調節線圈和殼體的內壁之間的距離，以控制被濾波器單元阻擋的頻率。

可以調節濾波器單元的調節構件的厚度，放置位置，數量和材料，以控制被濾波器單元阻擋的頻率。

將公開根據本發明構思的實施例的另一種用于處理基板的設備。