[發明專利]濾波器單元，包括該濾波器單元的基板處理設備和基板處理方法

在審

• 申請號: 202010434951.5
• 申請日: 2020-05-21
• 公開（公告）號: CN111988008A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: O·噶爾斯特延;成曉星;全炳建;安宗煥
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: H03H9/17
• 分類號: H03H9/17;H03H3/02;H01J37/32
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 鐘錦舜;童劍雄

1.一種用于處理基板的設備，所述設備包括：

腔室，在所述腔室中限定有處理空間；

支撐單元，其用于將所述基板支撐在所述處理空間中；

加熱器電源，其用于向容納在所述支撐單元中的加熱器施加電力；

高頻電源，其用于將高頻電力施加到容納在所述支撐單元中的下部電極；以及

濾波器單元，其安裝在用于將所述加熱器電源和所述加熱器彼此連接的線路處以防止高頻流入，

其中，所述濾波器單元包括：

殼體，

一個或多個線圈，其容納在所述殼體中，和

調節構件，其設置在所述殼體和所述線圈之間。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述調節構件由非磁性材料制成。

3.根據權利要求2所述的設備，其中，所述調節構件由介電材料制成或實施為浮動壁。

4.根據權利要求3所述的設備，其中，所述調節構件以預定間隔與所述線圈間隔開，

其中，所述調節構件與所述殼體的內壁間隔開或與所述殼體的所述內壁接觸。

5.根據權利要求3所述的設備，其中，所述濾波器單元的所述調節構件調節所述線圈與所述殼體的所述內壁之間的距離，以控制由所述濾波器單元阻擋的頻率。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中，調節所述濾波器單元的所述調節構件的厚度、放置位置、數量和材料以控制由所述濾波器單元阻擋的頻率。

7.一種用于處理基板的設備，該設備包括：

腔室，在所述腔室中限定有處理空間；

支撐單元，其用于將所述基板支撐在所述處理空間中；

加熱器電源，其用于向容納在所述支撐單元中的加熱器施加電力；

高頻電源，其用于將高頻電力施加到容納在所述支撐單元中的下部電極；以及

濾波器單元，其安裝在用于將所述加熱器電源和所述加熱器彼此連接的線路處以防止高頻流入，

其中，濾波器單元包括：

殼體，

低通濾波器，其容納在所述殼體中，和

一個或多個陷波濾波器，其串聯連接到所述低通濾波器，

其中，所述低通濾波器包括第一線圈和第一電容器，

其中，所述陷波濾波器包括第二線圈和第二電容器，

其中，調節所述第一線圈或所述第二線圈與所述殼體的內壁之間的距離以控制由濾波器單元阻擋的頻率，所述殼體的所述內壁靠近所述第一線圈或所述第二線圈。

8.根據權利要求7所述的設備，其中，所述濾波器單元包括設置在所述殼體與所述第一線圈之間、或在所述殼體與所述第二線圈之間的調節構件。

9.根據權利要求8所述的設備，其中，所述調節構件由非磁性材料制成。

10.根據權利要求9所述的設備，其中，所述調節構件由介電材料制成或實施為浮動壁。

11.根據權利要求10所述的設備，其中，所述調節構件以預定間隔與所述第一線圈或所述第二線圈間隔開，

其中，所述調節構件與所述殼體的所述內壁間隔開或與所述殼體的所述內壁接觸。

12.根據權利要求11所述的設備，其中，調節所述濾波器單元的所述調節構件的厚度、放置位置、數量和材料以控制由所述濾波器單元阻擋的頻率。

13.一種濾波器單元，其設置在加熱器和高頻電源之間并與所述加熱器和所述高頻電源連接以防止高頻流入，該濾波器單元包括：

殼體，

一個或多個線圈，其容納在所述殼體中，和

調節構件，其設置在所述殼體和所述線圈之間。