[發(fā)明專利]掩模版修復(fù)設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010433565.4
• 申請日: 2020-05-21
• 公開（公告）號: CN111618710B
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳策;許亮
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: B24B21/06
• 分類號: B24B21/06;B24B21/18;B24B21/20;B24B41/06;B24B47/20;B24B49/12;B24B49/16;G03F1/72;B23K26/36;B23K26/70
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 刁文魁

本申請?zhí)峁┮环N掩模版修復(fù)設(shè)備，掩模版修復(fù)設(shè)備包括研磨機(jī)構(gòu)，在研磨機(jī)構(gòu)中，導(dǎo)向頭的第一端部與所述第二驅(qū)動(dòng)組件連接，第二端部抵接研磨帶，第二驅(qū)動(dòng)組件用于驅(qū)動(dòng)導(dǎo)向頭擺動(dòng)以調(diào)整研磨帶的研磨角度。本申請通過將研磨機(jī)構(gòu)的導(dǎo)向頭設(shè)置為可擺動(dòng)的方式，提高了研磨機(jī)構(gòu)的研磨效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及一種顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模版修復(fù)設(shè)備。

背景技術(shù)

在掩模版的表面修復(fù)設(shè)備中，當(dāng)出現(xiàn)頑固的纖維和金屬類異物時(shí)，由于鐳射機(jī)構(gòu)無法進(jìn)行清除，因此只能人為進(jìn)行研磨，但手動(dòng)研磨的修復(fù)效率低而且對于掩模版不平整表面處的異物研磨效果差，比如凹面處的異物研磨不到。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實(shí)施例提供一種掩模版修復(fù)設(shè)備，以解決現(xiàn)有的掩模版表面修復(fù)設(shè)備對掩模版的修復(fù)效果差的技術(shù)問題。

本申請實(shí)施例提供一種掩模版修復(fù)設(shè)備，其包括：

研磨機(jī)構(gòu)，所述研磨機(jī)構(gòu)用于對掩模版上的異物進(jìn)行研磨處理；

所述研磨機(jī)構(gòu)包括：

驅(qū)動(dòng)控制模組，所述驅(qū)動(dòng)控制模組包括腔體、連接于所述腔體的第一驅(qū)動(dòng)組件、第二驅(qū)動(dòng)組件和多個(gè)滾輪，所述腔體面向所述掩模版的一側(cè)凹設(shè)形成一凹槽，所述第一驅(qū)動(dòng)組件與至少一所述滾輪連接且用于驅(qū)動(dòng)所述滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)，所述滾輪位于所述凹槽的外周側(cè)；

研磨帶，所述研磨帶用于研磨所述異物，所述研磨帶圍繞并搭接在所述滾輪上；以及

導(dǎo)向頭，所述導(dǎo)向頭設(shè)置在所述凹槽內(nèi)并延伸出所述凹槽，所述導(dǎo)向頭位于所述研磨帶形成的圈內(nèi)，所述導(dǎo)向頭包括相對設(shè)置的第一端部和第二端部，所述第一端部設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述第二端部設(shè)置在所述凹槽外，所述第一端部與所述第二驅(qū)動(dòng)組件連接，所述第二端部抵接所述研磨帶，所述第二驅(qū)動(dòng)組件用于驅(qū)動(dòng)所述導(dǎo)向頭擺動(dòng)以調(diào)整所述研磨帶的研磨角度。

在本申請所述的掩模版修復(fù)設(shè)備中，所述第一端部開設(shè)一固定孔，所述固定孔固定設(shè)置一連接軸，所述第二驅(qū)動(dòng)組件連接所述連接軸。

在本申請所述的掩模版修復(fù)設(shè)備中，所述掩模版修復(fù)設(shè)備包括移送機(jī)構(gòu)，所述移送機(jī)構(gòu)包括第一移位模塊、第二移位模塊和第三移位模塊，所述第一移位模塊用于驅(qū)動(dòng)所述研磨機(jī)構(gòu)沿著第一方向移動(dòng)，所述第二移位模塊用于驅(qū)動(dòng)所述研磨機(jī)構(gòu)沿著第二方向移動(dòng)，所述第三移位模塊用于驅(qū)動(dòng)所述研磨機(jī)構(gòu)沿著第三方向移動(dòng)；

所述第二移動(dòng)模塊滑動(dòng)設(shè)置在所述第一移位模塊上，所述第三移動(dòng)模塊滑動(dòng)設(shè)置在所述第二移動(dòng)模塊上，所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向兩兩垂直。

在本申請所述的掩模版修復(fù)設(shè)備中，所述研磨機(jī)構(gòu)還包括一用于感測導(dǎo)向頭與所述研磨帶的接觸處壓力的壓力傳感器，所述壓力傳感器設(shè)置在所述腔體上，所述第二端部上開設(shè)一固定槽，所述壓力傳感器的感測端設(shè)置在所述固定槽內(nèi)；

所述第三方向?yàn)樯舷路较颍鰤毫鞲衅髋c所述第三移動(dòng)模塊電連接。

在本申請所述的掩模版修復(fù)設(shè)備中，所述導(dǎo)向頭的擺動(dòng)角度小于120°。

在本申請所述的掩模版修復(fù)設(shè)備中，所述掩模版修復(fù)設(shè)備包括一第一圖像獲取機(jī)構(gòu)，所述第一圖像獲取機(jī)構(gòu)用于獲取掩模版上異物的圖像并根據(jù)所述圖像確定所述異物的高度，所述第一圖像獲取機(jī)構(gòu)與所述移送機(jī)構(gòu)電連接；

所述第一圖像獲取機(jī)構(gòu)包括：

第一攝像模塊，所述第一攝像模塊用于獲取所述異物的畫像；

第一圖像處理模塊，所述第一圖像處理模塊與所述第一攝像模塊電連接，所述第一圖像處理模塊用于根據(jù)所述異物各灰階下的畫像的反射光強(qiáng)度，獲得所述異物的高度；以及

第一發(fā)光組件，所述第一發(fā)光組件用于將光線垂直投射至所述掩模版的正面；以及