[發(fā)明專利]一種光罩結構

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010432698.X
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111552148A
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發(fā)明（設計）人: 莫超德
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F1/68
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權代理有限公司 44570
• 代理人: 刁文魁

本申請公開一種光罩結構，包括設置在透明基板上的光罩圖案；所述光罩圖案至少包括：第一納米材料圖案、第二納米材料圖案及透明絕緣層；所述第一納米材料圖案與所述第二納米材料圖案錯位分布；其中，所述第一納米材料圖案和/或所述第二納米材料圖案通過施加電壓，可實現(xiàn)透光和遮光的光罩作用。本申請將多種光罩圖案制作在同一光罩結構上，有效的減少了光罩數(shù)量，降低了生產(chǎn)成本，在后續(xù)圖案化制程中，簡化了圖形對準工藝，提高了生產(chǎn)效率。

技術領域

本申請涉及顯示技術領域，尤其涉及一種光罩結構。

背景技術

近年來，顯示產(chǎn)品作為直接參與人們?nèi)粘Ｉ畹碾娮赢a(chǎn)品得到迅速發(fā)展，顯示產(chǎn)品越來越高階，對集成電路或彩膜基板定義的特征尺寸大小也開始有所變化，因此在制作時所使用的光罩尺寸大小也不同。為滿足產(chǎn)品要求，得到不同的電路圖形或彩膜基板，所用到的光罩數(shù)量就會增多，而光罩本身價格昂貴且維護成本高，每次光刻都要相互套準，這就增大了生產(chǎn)成本，降低了工作效率。鑒于以上問題，有必要提供一種光罩結構及其制作方法，以降低生產(chǎn)成本，提高工作效率。

發(fā)明內(nèi)容

本申請實施例提供一種光罩結構，以解決集成電路或彩膜基板在制作過程中，使用光罩數(shù)量多，生產(chǎn)成本高的問題。將多種圖案制作在同一光罩結構上，以減少光罩數(shù)量，達到降低生產(chǎn)成本，提高工作效率的目的。

本申請?zhí)峁┮环N光罩結構及其制造方法，所述光罩結構包括：透明基板，以及設置在所述透明基板上的光罩圖案；

所述光罩圖案至少包括：

陣列分布的第一納米材料圖案，各所述第一納米材料圖案之間電性連接；

透明絕緣層，至少覆蓋所述第一納米材料圖案和所述電性連接處；

陣列分布的第二納米材料圖案，各所述第二納米材料圖案之間電性連接；所述第二納米材料圖案設置于所述透明絕緣層上；

所述第一納米材料圖案與所述第二納米材料圖案錯位分布；

其中，所述第一納米材料圖案和/或所述第二納米材料圖案通過施加電壓，可實現(xiàn)透光和遮光的光罩作用。

在一些實施例中，所述透明基板為石英玻璃。

在一些實施例中，所述第一納米材料圖案和所述第二納米材料圖案的材料為銀納米顆粒或銀納米線的一種或兩種的組合。

所述第一納米材料圖案和所述第二納米材料圖案通過納米壓印或真空蒸鍍工藝沉積在所述透明基板上，膜層厚度為0.5～10μm；所述第一納米材料圖案和所述第二納米材料圖案由無數(shù)個微小的銀納米顆粒或銀納米線組成，在不加電時這些微小的銀納米顆粒或銀納米線分散排列，宏觀上表現(xiàn)為透明狀態(tài)；當加電后銀納米顆粒或銀納米線會發(fā)生運動，彼此靠攏，宏觀上表現(xiàn)為不透明狀態(tài)。

在一些實施例中，所述第一納米材料圖案之間、所述第二納米材料圖案之間分別通過導線實現(xiàn)電性連接，所述導線分別引出，并經(jīng)匯聚后布置于所述光罩結構邊緣區(qū)域，所述導線由真空鍍膜或涂布工藝制得。

在一些實施例中，所述導線均采用透明金屬材料，所述透明金屬材料選擇為ITO、石墨烯、導電有機高分子材料的一種或兩種以上的組合，厚度優(yōu)選小于對應的所述第一納米材料圖案或所述第二納米材料圖案的膜層厚度。

在一些實施例中，所述透明絕緣層采用真空鍍膜或涂布工藝制得，材料優(yōu)選但不局限于氧化硅(SiO)、氮化硅(SiN)、氧化鋁(AI2O3)，所述透明絕緣層的膜層厚度大于且厚度優(yōu)選大于其底部所覆蓋膜層的厚度。