[發明專利]劑量調制

在審

• 申請號: 202010428777.3
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111956247A
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: 迪特爾·馬圖蘇克;安雅·弗里泰茨勒;馬丁·彼得西爾卡
• 申請（專利權）人: 西門子醫療有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 丁永凡;蔣靜靜

劑量調制。本發明涉及一種用于借助結構化的陽極或借助場發射陰極或借助指狀的陰極頭來確定X射線輻射的強度的方法，一種相關的X射線裝置，一種相關的單X射線管計算機斷層掃描儀，一種相關的雙X射線管計算機斷層掃描儀和一種相關的計算機程序產品。

技術領域

本發明涉及一種用于借助結構化的陽極或借助場發射陰極或借助指狀陰極頭來確定X射線輻射的強度的方法，一種相關的X射線裝置，一種相關的單X射線管計算機斷層掃描儀，一種相關的雙X射線管計算機斷層掃描儀和一種相關的計算機程序產品。

背景技術

借助X射線輻射對患者進行成像測量可能會需要對X射線輻射進行劑量調制。所述劑量調制通常對應于在成像測量期間尤其根據患者來調整X射線輻射的強度。通常能夠借助于改變發射體的和/或發射體加熱裝置的加熱電流來進行劑量調制。在常規的X射線管中，所述劑量調制的速度尤其受到X射線管的發射體的和/或發射體加熱裝置的熱學特性的限制。例如，常規的扁平發射體能夠借助于在發射體加熱裝置中流過的加熱電流通過離開常規的發射體加熱裝置的加熱電子而間接地加熱，進而能夠激發來自常規的扁平發射體的電子的發射。一種替選的扁平發射體或常規的發射體通常直接被加熱電流穿流從而被激發以發射電子。

X射線輻射的強度變化越大，該過程就通常由于相對緩慢的熱學特性而持續越長的時間。尤其，在常規的X射線管中，X射線輻射的強度的顯著降低可能持續幾個十分之一秒。如果例如在計算機斷層掃描儀中使用常規的X射線管，那么在計算機斷層掃描儀中在常規的X射線管的旋轉時間中在亞秒范圍內，在這種情況下，所述劑量調制并非始終立即適配于患者。

發明內容

本發明所基于的目的是，提出一種用于借助結構化的陽極或借助場發射陰極或借助指狀的陰極頭來確定X射線輻射的強度的方法，一種相關的X射線裝置，一種相關的單X射線管計算機斷層掃描儀，一種相關的雙X射線管計算機斷層掃描儀和一種相關的計算機程序產品，其中更快地確定X射線輻射的強度。

所述目的通過根據本發明的借助結構化的陽極或借助場發射陰極或借助指狀的陰極頭來確定X射線輻射的強度的方法，根據本發明的X射線裝置，根據本發明的單X射線管計算機斷層掃描儀，根據本發明的雙X射線管計算機斷層掃描儀和根據本發明的計算機程序產品來實現。在下文中描述了有利的設計方案。

根據本發明的用于借助結構化的陽極確定X射線輻射的強度的方法具有下述步驟：

-提供X射線管，所述X射線管具有結構化的陽極，所述結構化的陽極具有第一陽極微結構和第二陽極微結構，

-在控制單元中提供根據第一陽極微結構的第一X射線輻射強度特征數和根據第二陽極微結構的第二X射線輻射強度特征數，

-在控制單元中根據在成像測量時要檢查的患者確定X射線輻射強度的第一期望值，

-在控制單元中根據X射線輻射強度的第一期望值，選擇第一X射線輻射強度特征數或第二X射線輻射強度特征數作為第一期望值X射線輻射強度特征數，和

-為了生成X射線輻射，根據所選擇的第一期望值X射線輻射強度特征數，將X射線管的電子束定向到第一陽極微結構或第二陽極微結構上，由此確定結構化的陽極的X射線輻射的強度。

用于借助結構化的陽極確定X射線輻射的強度的方法尤其提供下述優點：尤其相對于加熱電流的變化，能夠快速地確定X射線輻射強度。這尤其是由于，相對于常規的發射體的和/或常規的發射體加熱裝置的加熱電流能夠改變，和/或相對于電子的由于熱學特性所引起的發射率能夠根據加熱電流的變化來調整，電子束通常能夠更快地定向，即移動。相對于電子束的定向，加熱電流的改變通常是緩慢的。有利的是，盡管不改變加熱電流，但是能夠確定或改變X射線輻射的強度，由此所發射的電子的數量通常保持恒定。也就是說，根據本發明的用于確定X射線輻射的強度的方法尤其對應于有利的劑量調制。