[發明專利]劑量調制

在審

• 申請號: 202010428777.3
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111956247A
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: 迪特爾·馬圖蘇克;安雅·弗里泰茨勒;馬丁·彼得西爾卡
• 申請（專利權）人: 西門子醫療有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 丁永凡;蔣靜靜

1.一種用于借助結構化的陽極(19)來確定X射線輻射的強度的方法，所述方法具有下述步驟：

-提供X射線管(11)，所述X射線管具有結構化的陽極(19)，所述結構化的陽極具有第一陽極微結構(20)和第二陽極微結構(21)，

-在控制單元(15)中提供根據所述第一陽極微結構(20)的第一X射線輻射強度特征數和根據所述第二陽極微結構(21)的第二X射線輻射強度特征數，

-在所述控制單元(15)中根據在成像測量時要檢查的患者(P)確定所述X射線輻射的強度的第一期望值，

-在所述控制單元(15)中根據所述X射線輻射的強度的所述第一期望值，選擇所述第一X射線輻射強度特征數或所述第二X射線輻射強度特征數作為第一期望值X射線輻射強度特征數，和

-為了生成所述X射線輻射，根據所選擇的所述第一期望值X射線輻射強度特征數，將所述X射線管(11)的電子束定向到所述第一陽極微結構(20)上或定向到所述第二陽極微結構(21)上，由此確定所述結構化的陽極(19)的所述X射線輻射的強度。

2.根據權利要求1所述的方法，其中在所述控制單元(15)中根據在成像測量時要檢查的患者(P)來確定所述X射線輻射強度的第二期望值，其中在所述控制單元(15)中根據所述X射線輻射的強度的第二期望值選擇第二期望值X射線輻射強度特征數，并且其中根據所選擇的所述第二期望值X射線輻射強度特征數，將所述X射線管(11)的電子束重新定向到所述第一陽極微結構(20)或所述第二陽極微結構(21)上。

3.根據權利要求2所述的方法，其中在根據所選擇的所述第一期望值X射線輻射強度特征數定向所述電子束之后，在小于1s的電子束定向時間內，根據所選擇的所述第二期望值X射線輻射強度特征數重新定向所述電子束。

4.根據權利要求3所述的方法，其中所述電子束定向時間小于1ms。

5.根據權利要求3或4所述的方法，其中所述電子束定向時間與所述成像測量的X射線檢測器讀取時間相匹配。

6.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中所述第一陽極微結構(20)與所述第二陽極微結構(21)的區別在于下述參數中的至少一個參數：

-槽深，

-槽寬，

-中心點間距，

-在槽的打點中。

7.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中所述電子束借助于電磁偏轉單元或借助于韋納爾圓柱體定向。

8.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中提供具有第三陽極微結構(23)和第四陽極微結構(24)的另一結構化的陽極(22)作為另一X射線管(13)的一部分，其中在所述控制單元(15)中提供根據所述第三陽極微結構(23)的第三X射線輻射強度特征數和根據所述第四陽極微結構(24)的第四X射線輻射強度特征數，其中在所述控制單元(15)中以與所述第一期望值互補的方式確定所述另一結構化的陽極(22)的X射線輻射的強度的另一期望值，其中在所述控制單元(15)中選擇所述第三X射線輻射強度特征數或所述第四X射線輻射強度特征數作為根據所述X射線輻射的強度的另一期望值的另一期望值X射線輻射強度特征數，并且其中為了生成所述X射線輻射，根據所選擇的所述另一期望值X射線輻射強度特征數，將所述另一X射線管(13)的另一電子束定向到所述第三陽極微結構(23)或所述第四陽極微結構(24)上，由此確定所述另一結構化的陽極(22)的X射線輻射的強度。