[發(fā)明專利]光斑檢測(cè)裝置和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010426003.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113686542A | 公開(公告)日: | 2021-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 遲鵬;張昊翔;孫玲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蔚海光學(xué)儀器(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01M11/00 | 分類號(hào): | G01M11/00;G01B11/00 |
| 代理公司: | 上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 楊楷;毛立群 |
| 地址: | 201108 上海市閔行區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光斑 檢測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種光斑測(cè)量裝置,其特征在于,包括靶板以及刻度單元,所述刻度單元設(shè)置于所述靶板的承光面上,在所述承光面上還設(shè)置有夜光層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,在所述刻度單元的遠(yuǎn)離所述靶板的一側(cè)設(shè)置有防水層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,所述刻度單元包括十字刻度線,所述十字刻度線形成為網(wǎng)格狀的刻度標(biāo)尺。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,所述刻度單元包括弧形刻度線,所述弧形刻度線形成為環(huán)狀的刻度標(biāo)尺。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,所述刻度單元還包括多個(gè)刻度標(biāo)簽,多個(gè)所述刻度標(biāo)簽對(duì)應(yīng)于多個(gè)所述弧形刻度線的半徑、直徑或者面積中的任一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,所述靶板由柔性材質(zhì)制成且構(gòu)成所述夜光層的夜光材料摻混入所述柔性材質(zhì)中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,在所述夜光層中摻混有紅外夜光材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-2、5-6中任一項(xiàng)所述的光斑測(cè)量裝置,其特征在于,所述光斑測(cè)量裝置還包括:
光電探測(cè)設(shè)備,用于拍攝所述靶板上的光斑圖像;
計(jì)算機(jī),與所述光電探測(cè)設(shè)備為電性連接;
所述光電探測(cè)設(shè)備將從所述夜光層獲得的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)并輸送至所述計(jì)算機(jī)。
9.一種光斑測(cè)量方法,其特征在于,包括如下步驟:
照射步驟,光斑被照射至靶板;
留存步驟,靶板上與光斑對(duì)應(yīng)位置處的夜光材料留存光斑;
測(cè)量步驟,利用刻度單元對(duì)該留存的光斑進(jìn)行測(cè)量。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光斑測(cè)量方法,其特征在于,在所述留存步驟和所述測(cè)量步驟之間還具有如下步驟:
轉(zhuǎn)移步驟,將靶板轉(zhuǎn)移到另一個(gè)區(qū)域;
在所述測(cè)量步驟中利用刻度單元的十字刻度線、弧形刻度線或多個(gè)刻度標(biāo)簽中的任一種方式進(jìn)行測(cè)量。
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