[發明專利]一種多激光頭燒蝕集成控制系統及方法

在審

• 申請號: 202010418118.1
• 申請日: 2020-05-18
• 公開（公告）號: CN111774732A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 王春明;王軍;但成林;張威
• 申請（專利權）人: 武漢翔明激光科技有限公司
• 主分類號: B23K26/36
• 分類號: B23K26/36;B23K26/064;G21F9/00
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 杜陽陽

本發明涉及一種多激光頭燒蝕集成控制系統及方法，所述系統包括：n個激光頭模塊，用于發射光斑，n為大于1的正整數；控制器，與各所述激光頭模塊連接，用于根據待處理物數據信息生成工作參數，根據所述工作參數生成第一控制指令，并根據所述第一控制指令控制各所述激光頭模塊發射所述光斑。本發明燒蝕深度大、燒蝕效率高且應用范圍廣。

技術領域

本發明涉及激光去污技術領域，特別是涉及一種多激光頭燒蝕集成控制系統及方法。

背景技術

核行業中的核設施在使用或退役后存在零件被核輻射污染，污染層需要被清除，傳統的清除方法基本為機械-物理法和化學法，機械-物理法包括機械擦拭、高壓水沖洗等，化學法主要以強酸、強堿溶液溶解表層污染物。這些傳統清除方法存在效率低下、基體受損和粉塵及顆粒污染嚴重的問題，并且對使用場合和待加工件的形狀、尺寸也有一定的限制。

現有應用的激光燒蝕去污技術，采用的一般是單一激光光源燒蝕技術，對于復雜形狀和燒蝕深度要求高的待加工件進行燒蝕處理，難以到達理想的去污效果。

發明內容

本發明的目的是提供一種燒蝕深度大、燒蝕效率高、應用范圍廣且無污染的燒蝕集成系統及方法。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：

一種多激光頭燒蝕集成控制系統，包括：

n個激光頭模塊，用于發射光斑，n為大于1的正整數；

控制器，與各所述激光頭模塊連接，用于根據待處理物數據信息生成工作參數，根據所述工作參數生成第一控制指令，并根據所述第一控制指令控制各所述激光頭模塊發射所述光斑。

優選地，所述激光頭模塊包括：激光器、隔離頭、反射鏡、X掃描鏡、X振鏡、Y掃描鏡、Y振鏡和場鏡；

所述激光器、所述隔離頭、所述X掃描鏡、所述Y掃描鏡均與所述控制器內連接；

所述反射鏡與所述隔離頭相對設置；

所述Y振鏡與所述反射鏡相對設置；

所述X振鏡與所述Y振鏡相對設置；

所述場鏡與所述X振鏡相對設置；

所述控制器控制所述激光器發射激光，所述激光經過所述隔離頭生成點光斑，所述點光斑經過所述Y掃描鏡和所述X掃描鏡生成面光斑，所述面光斑經過所述場鏡生成線光斑，通過所述線光斑對待處理物進行燒蝕去污，所述線光斑即為所述光斑。

優選地，所述系統還包括：

煙塵凈化器，與所述控制器連接，且通過管路作用于待處理物；

所述控制器控制所述煙塵凈化器對顆粒殘渣進行凈化處理，所述顆粒殘渣為所述線光斑對待處理物進行燒蝕去污時產生的。

優選地，所述系統還包括：

冷卻模塊，分別與所述控制器和各所述激光頭模塊連接，用于在各所述激光頭模塊的溫度超過溫度設定值時對各所述激光頭模塊進行降溫。

優選地，所述冷卻模塊包括：

溫度傳感器單元，分別與所述激光器、所述隔離頭、所述反射鏡、所述X掃描鏡、所述X振鏡、所述Y掃描鏡、所述Y振鏡和所述場鏡相對設置，且與所述控制器連接，用于檢測所述激光器、所述隔離頭、所述反射鏡、所述X掃描鏡、所述X振鏡、所述Y掃描鏡、所述Y振鏡和所述場鏡的溫度并生成溫度信息發送給所述控制器，所述控制器判斷所述溫度信息是否大于或等于所述溫度設定值，若是，所述控制器生成第二控制指令，若否，則不處理；