[發(fā)明專利]一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010414479.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111624079A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王韜略 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 王韜略 |
| 主分類號(hào): | G01N1/32 | 分類號(hào): | G01N1/32;G01N21/84;G01N35/00 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 200040 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電廠 化工廠 金相 樣機(jī) | ||
1.一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,用于待加工材料,包括:
一定位車;
一機(jī)械臂,設(shè)置在所述定位車的上方,并與所述定位車固定連接;
一轉(zhuǎn)盤(pán),通過(guò)一轉(zhuǎn)軸與所述機(jī)械臂連接,所述轉(zhuǎn)盤(pán)中包括:
多個(gè)電解液存儲(chǔ)槽,設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)中,所述電解液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)電解液,所述電解液用于對(duì)所述待加工材料進(jìn)行電解加工;
一定位裝置,所述定位裝置設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)的下方,用于獲取所述機(jī)械臂和所述待加工材料的位置信息,并將所述位置信息輸出;
所述定位車帶動(dòng)所述機(jī)械臂進(jìn)行移動(dòng),并根據(jù)所述定位攝像裝置輸出的所述位置信息停止移動(dòng),所述機(jī)械臂移動(dòng)并根據(jù)所述位置信息控制所述轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng),所述電解液存儲(chǔ)槽中存儲(chǔ)的所述電解液對(duì)所述待加工材料進(jìn)行電解加工。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,還包括:
一電解液存儲(chǔ)池,設(shè)置在所述定位車上方,用于存儲(chǔ)電解液;
所述電解液存儲(chǔ)槽通過(guò)第一導(dǎo)管與所述電解液存儲(chǔ)池連接,用于從所述電解液存儲(chǔ)池中獲取所述電解液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,所述電解液存儲(chǔ)池中設(shè)置一電解液泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,還包括:
一清潔液存儲(chǔ)池,設(shè)置在所述定位車上方的另一側(cè),用于存儲(chǔ)清潔液,所述清潔液用于對(duì)電解加工后的所述待加工材料進(jìn)行清潔;
所述轉(zhuǎn)盤(pán)中還包括:
多個(gè)清潔液存儲(chǔ)槽,設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)中并通過(guò)第二導(dǎo)管與所述清潔液存儲(chǔ)池連接,用于從所述清潔液存儲(chǔ)池中獲取所述清潔液。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,所述清潔液存儲(chǔ)池中設(shè)置一清潔液泵。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,一種可變非鐵磁性底座,其特征在于,所述轉(zhuǎn)軸為浮動(dòng)轉(zhuǎn)軸,所述浮動(dòng)轉(zhuǎn)軸用于改變所述轉(zhuǎn)盤(pán)與所述機(jī)械臂之間的夾角;
所述機(jī)械臂根據(jù)所述位置信息控制所述浮動(dòng)轉(zhuǎn)軸浮動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,所述轉(zhuǎn)盤(pán)中還包括:
一金相顯微鏡,設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤(pán)中,用于對(duì)所述待加工材料進(jìn)行測(cè)量檢測(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種電廠及化工廠金相制樣機(jī)器人,其特征在于,所述金相顯微鏡中包括:
一無(wú)線傳輸模塊,用于獲取所述金相顯微鏡的測(cè)量檢測(cè)結(jié)果并輸出。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于王韜略,未經(jīng)王韜略許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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