[發(fā)明專利]用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定的標(biāo)定系統(tǒng)及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010414136.2
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111504344B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊君;習(xí)先強
• 申請（專利權(quán)）人: 天津時空經(jīng)緯測控技術(shù)有限公司
• 主分類號: G01C25/00
• 分類號: G01C25/00;G01C1/00
• 代理公司: 北京萬思博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11694
• 代理人: 劉冀

本申請公開了一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定的標(biāo)定系統(tǒng)及方法。其中，非接觸姿態(tài)測量設(shè)備包括用于測量與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài)信息的光學(xué)準(zhǔn)直裝置和用于測量與光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài)信息的姿態(tài)測量裝置，并且標(biāo)定系統(tǒng)包括：姿態(tài)調(diào)整設(shè)備，用于調(diào)整非接觸姿態(tài)測量設(shè)備的姿態(tài)；反射部件，設(shè)置有朝向光學(xué)準(zhǔn)直裝置的參考反射面；以及計算設(shè)備，與光學(xué)準(zhǔn)直裝置以及姿態(tài)測量裝置連接，配置用于：根據(jù)從光學(xué)準(zhǔn)直裝置接收的第一測量信息確定光學(xué)準(zhǔn)直裝置的第一姿態(tài)信息；根據(jù)從姿態(tài)測量裝置接收的第二測量信息確定光學(xué)準(zhǔn)直裝置的第二姿態(tài)信息；以及根據(jù)第一姿態(tài)信息和第二姿態(tài)信息，對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及標(biāo)定技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn) 行標(biāo)定的標(biāo)定系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的對物體的姿態(tài)進(jìn)行測量的方式為接觸式姿態(tài)測量，例如將陀螺儀放 置在被測物體上，用以測量被測物體的姿態(tài)。然而，在實際的應(yīng)用場景中，會 存在無法直接將陀螺儀放置在被測物體上的情況。從而提出了一種由光學(xué)準(zhǔn)直 裝置和姿態(tài)測量裝置共同構(gòu)成的非接觸姿態(tài)測量設(shè)備，其中利用光學(xué)準(zhǔn)直裝置 中分劃板上的刻線的位置，確定被測物體相對于光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)，然后通 過將光學(xué)準(zhǔn)直裝置設(shè)置于姿態(tài)測量裝置之上，即可通過姿態(tài)測量裝置測量出光 學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)，最后根據(jù)被測物體相對于光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)最終確定被 測物體的姿態(tài)。

在使用上述的非接觸姿態(tài)測量設(shè)備對被測物體的姿態(tài)進(jìn)行測量的過程中， 要求光學(xué)準(zhǔn)直裝置的坐標(biāo)系與姿態(tài)測量裝置的坐標(biāo)系始終保持一致，才能夠根 據(jù)被測物體相對于光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)和姿態(tài)測量裝置測量出的光學(xué)準(zhǔn)直裝置 的姿態(tài)運算出被測物體的姿態(tài)。但是，在將光學(xué)準(zhǔn)直裝置安裝于姿態(tài)測量裝置 上的安裝過程中，容易造成光學(xué)準(zhǔn)直裝置的坐標(biāo)系與姿態(tài)測量裝置的坐標(biāo)系出 現(xiàn)偏差，從而導(dǎo)致所確定的被測物體的姿態(tài)出現(xiàn)誤差。因此，需要一種用于對 非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定的標(biāo)定方案，用于判定非接觸姿態(tài)測量設(shè)備中的 光學(xué)準(zhǔn)直裝置的坐標(biāo)系與姿態(tài)測量裝置的坐標(biāo)系是否一致。

但是，目前缺少一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定的標(biāo)定方案，用 以判定非接觸姿態(tài)測量設(shè)備中的光學(xué)準(zhǔn)直裝置的坐標(biāo)系與姿態(tài)測量裝置的坐標(biāo) 系是否一致。

發(fā)明內(nèi)容

本公開提供了一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定的標(biāo)定系統(tǒng)及方法， 能夠判定非接觸姿態(tài)測量設(shè)備中的光學(xué)準(zhǔn)直裝置的坐標(biāo)系與姿態(tài)測量裝置的坐 標(biāo)系是否一致，從而保證了通過非接觸姿態(tài)測量設(shè)備測量得到的被測物體的姿 態(tài)信息的精準(zhǔn)度。

根據(jù)本申請的一個方面，提供了一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定 的標(biāo)定系統(tǒng)，其中非接觸姿態(tài)測量設(shè)備包括光學(xué)準(zhǔn)直裝置和與光學(xué)準(zhǔn)直裝置連 接的姿態(tài)測量裝置，并且光學(xué)準(zhǔn)直裝置用于測量與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài) 信息，姿態(tài)測量裝置用于測量與光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài)信息，標(biāo)定系 統(tǒng)包括：姿態(tài)調(diào)整設(shè)備，用于調(diào)整非接觸姿態(tài)測量設(shè)備的姿態(tài)；反射部件，設(shè) 置有朝向光學(xué)準(zhǔn)直裝置的參考反射面；以及計算設(shè)備，與光學(xué)準(zhǔn)直裝置以及姿 態(tài)測量裝置連接，并且配置用于：根據(jù)從光學(xué)準(zhǔn)直裝置接收的第一測量信息， 確定光學(xué)準(zhǔn)直裝置的第一姿態(tài)信息；根據(jù)從姿態(tài)測量裝置接收的第二測量信息， 確定光學(xué)準(zhǔn)直裝置的第二姿態(tài)信息；以及根據(jù)第一姿態(tài)信息和第二姿態(tài)信息， 對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定。

根據(jù)本申請的另一個方面，還提供了一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行 標(biāo)定的標(biāo)定方法，其中非接觸姿態(tài)測量設(shè)備包括光學(xué)準(zhǔn)直裝置和與光學(xué)準(zhǔn)直裝 置連接的姿態(tài)測量裝置，并且光學(xué)準(zhǔn)直裝置用于測量與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的 姿態(tài)信息，姿態(tài)測量裝置用于測量與光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài)信息，標(biāo) 定方法包括：調(diào)整非接觸姿態(tài)測量設(shè)備的姿態(tài)；根據(jù)從光學(xué)準(zhǔn)直裝置接收的第 一測量信息，確定光學(xué)準(zhǔn)直裝置的第一姿態(tài)信息；根據(jù)從姿態(tài)測量裝置接收的 第二測量信息，確定光學(xué)準(zhǔn)直裝置的第二姿態(tài)信息；以及根據(jù)第一姿態(tài)信息和 第二姿態(tài)信息，對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進(jìn)行標(biāo)定。

根據(jù)本申請的另一個方面，還提供了一種存儲介質(zhì)，存儲介質(zhì)包括存儲的 程序，其中，在程序運行時由處理器執(zhí)行以上所述的方法。