[發明專利]用于對非接觸姿態測量設備進行標定的標定系統及方法

有效

• 申請號: 202010414136.2
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111504344B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 楊君;習先強
• 申請（專利權）人: 天津時空經緯測控技術有限公司
• 主分類號: G01C25/00
• 分類號: G01C25/00;G01C1/00
• 代理公司: 北京萬思博知識產權代理有限公司 11694
• 代理人: 劉冀

1.一種用于對非接觸姿態測量設備(20)進行標定的標定系統(10)，其中所述非接觸姿態測量設備(20)包括光學準直裝置(210)和與所述光學準直裝置(210)連接的姿態測量裝置(220)，并且所述光學準直裝置(210)用于測量與被測物體的姿態相關的姿態信息，所述姿態測量裝置(220)用于測量與所述光學準直裝置(210)的姿態相關的姿態信息，其特征在于，所述標定系統(10)包括：

姿態調整設備(110)，用于調整所述非接觸姿態測量設備(20)的姿態；

反射部件(120)，設置有朝向所述光學準直裝置(210)的參考反射面(S1)；以及

計算設備(130)，與所述光學準直裝置(210)以及所述姿態測量裝置(220)連接，配置用于：

根據從所述光學準直裝置(210)接收的第一測量信息，確定所述光學準直裝置(210)的第一姿態信息；

根據從所述姿態測量裝置(220)接收的第二測量信息，確定所述光學準直裝置(210)的第二姿態信息；以及

根據所述第一姿態信息和所述第二姿態信息，對所述非接觸姿態測量設備(20)進行標定，并且其中

根據所述第一姿態信息和所述第二姿態信息，對所述非接觸姿態測量設備(20)進行標定的操作，包括：將所述第一姿態信息與所述第二姿態信息進行比對；以及根據所述比對的結果，判定所述非接觸姿態測量設備(20)中的所述光學準直裝置(210)與所述姿態測量裝置(220)之間的坐標系是否一致。

2.根據權利要求1所述的標定系統(10)，其特征在于，所述光學準直裝置(210)包括：光源(211)；圖像采集單元(212)；設置于所述光源前的第一分劃板(213)；設置于所述圖像采集單元(212)前的第二分劃板(214)；以及光學系統，其中

所述光學系統用于將由所述光源(211)發射并且穿過所述第一分劃板(213)的光源光投射到所述參考反射面(S1)上，以及將從所述參考反射面(S1)反射回的所述光源光經由所述第二分劃板(214)投射到所述圖像采集單元(212)，并且

根據從所述光學準直裝置(210)接收的第一測量信息，確定所述光學準直裝置(210)的第一姿態信息的操作，包括：

接收所述圖像采集單元(212)采集的檢測圖像作為所述第一測量信息，其中所述檢測圖像包含所述第一分劃板(213)的第一刻線的第一影像和所述第二分劃板(214)的第二刻線的第二影像；

根據所述第一影像與所述第二影像的位置，確定所述光學準直裝置(210)與所述參考反射面(S1)的方位角偏差以及俯仰角偏差；以及

根據所述方位角偏差、所述俯仰角偏差以及與所述參考反射面(S1)相關的姿態信息，確定所述光學準直裝置(210)的第一姿態信息。

3.根據權利要求1所述的標定系統(10)，其特征在于，根據從所述姿態測量裝置(220)接收的第二測量信息，確定所述光學準直裝置(210)的第二姿態信息的操作，包括：利用捷聯慣導算法，根據所述第二測量信息，確定所述光學準直裝置(210)的第二姿態信息。

4.根據權利要求1所述的標定系統(10)，其特征在于，所述姿態調整設備(110)包括：

第一姿態調整組件(111)，用于調整所述非接觸姿態測量設備(20)的俯仰角；以及

第二姿態調整組件(112)，設置于所述第一姿態調整組件(111)上，用于調整所述非接觸姿態測量設備(20)的方位角。

5.根據權利要求4所述的標定系統(10)，其特征在于，所述第一姿態調整組件(111)包括：支撐架(1111)、承載盒(1112)以及第一轉動部件(1113)，其中所述承載盒(1112)通過所述第一轉動部件(1113)與所述支撐架(1111)連接。

6.根據權利要求5所述的標定系統(10)，其特征在于，所述第二姿態調整組件(112)包括設置于所述支撐架(1111)底部的轉動平臺(1121)以及第二轉動部件(1122)，其中所述轉動平臺(1121)通過所述第二轉動部件(1122)與所述支撐架(1111)連接，并且所述第一轉動部件(1113)與所述第二轉動部件(1122)垂直。